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          國際集成電路頂會收錄論文數(shù)公布,中國首次位居世界第一

          作者:問舟 時間:2022-11-20 來源:IT之家 收藏

          IT之家 11 月 20 日消息,相對于 國際研討會,在半導體和集成電路領域還有著三大盛會的存在,他們分別是:

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202211/440625.htm
          • (International Solid-State Circuits Conference,國際固態(tài)電路會議)、

          • (International Electron Devices Meeting,國際電子器件會議)、

          • (Symposium on Technology and Circuits,超大規(guī)模集成電路技術和電路研討會)。

          這三大會議,并稱集成電路和半導體領域的“奧林匹克”。

          本周三,國際固態(tài)電路會議()組委會召開新聞發(fā)布會,介紹了 2023 及最新研究動向。

          簡單來說,ISSCC 于 1954 年首次舉辦,第 70 屆大會將于 2 月 19 日在美國舊金山召開(ISSCC 論文截稿時間 9 月初,將于明年 2 月 19 日舉行會議),來自 30 多個國家地區(qū)的 3000 多名研究人員將參加,分享該領域的最新技術進展,例如臺積電、聯(lián)發(fā)科、索尼、三星、英特爾等單位、大學和研究機構。

          國際集成電路頂會收錄論文數(shù)公布,中國首次位居世界第一

          據(jù)組委會介紹,今年共有 629 篇研究論文提交給 ISSCC,其中 198 篇通過了篩選。IT之家了解到,這 198 篇中包括中國 59 人(包括香港和澳門),占據(jù) 29.8%,較 2010 年 2 月的 14.5%(29 人)大幅增加,其中 15 篇屬澳門大學,13 篇屬清華大學,6 篇屬北京大學。也正因此,中國一舉超越美國(42 人)和韓國(32 人),首次位居世界第一。



          關鍵詞: ISSCC IEDM VLSI IEEE

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