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          帶你了解摩爾定律的“續(xù)命神藥”—EUV（極紫外光刻）
          
                    
          Extreme Ultra-violet
          
                
          
            
          
        
          
        

        
        
        
          
            
          
                
                    
          
                    
          
                        
          詳述EUV光刻技術(shù)
          
                        
          EUV lithography is described in detail
          
                    
          
                
          
                
          
                    
                    
          
                        
          全面起底ASML的EUV光刻技術(shù)
          
                        
          用于高端邏輯半導體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節(jié)點到今年(2019年，也是從今年開始)，每2年~3年一個階段向新的技術(shù)節(jié)點發(fā)展…
          
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          “芯”希望來自新工藝！EUV和GAAFET技術(shù)是個什么鬼？
          
                        
          隨著三星Exynos 990和麒麟990移動平臺的問世,一種名為“7nm+EUV”的全新工藝登上了歷史舞臺…
          
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          EUV光刻機將如何發(fā)展？
          
                        
          AI、5G應(yīng)用推動芯片微縮化,要實現(xiàn)5nm、3nm等先進制程,意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進行加工制造,半導體設(shè)備商遂陸續(xù)推出新一代方案…
          
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          相關(guān)廠商動態(tài)
          
                        
          Related vendor dynamics
          
                    
          
                
          
                    
                    
          
                        
          
                            
          
                                
          
                                    
                                
          
                                
          
                                    
          面向3nm及以下工藝，ASML新一代EUV光刻機曝光
          
                                    
          很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實現(xiàn)…
          
                                
          
                                    
                            
          
                        
          
                        
          
                            
          
                                
          
                                    
                                
          
                                
          
                                    
          三星最先進EUV產(chǎn)線投用：7nm產(chǎn)能今年增加兩倍
          
                                    
          當前，有實力圍繞10nm以下先進制程較量的廠商僅剩下Intel、臺積電和三星三家。2月20日，三星宣布，在韓國華城工業(yè)園新開一條專司EUV（極紫外光刻）…
          
                                
          
                                    
                            
          
                        
          
                        
          
                            
          
                                
          
                                    
                                
          
                                
          
                                    
          中芯國際稱7nm EUV光刻機問題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌
          
                                    
          在半導體工藝進入10nm節(jié)點之后，制造越來越困難，其中最復雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)…
          
                                
          
                                    
                            
          
                        
          
                    
          
                    

                    
          
                        
          
                            
          
                                
          
                                    
                                
          
                                
          
                                    
          臺積電遇強大對手!6nm、7nm EUV開啟全面量產(chǎn),中國仍需努力!
          
                                    
          告別了諾基亞、HTC、黑莓等手機,目前的智能手機陣營也就是安卓和蘋果,而智能手機儼然就是人們的第二個精神生命,手機不離手已經(jīng)成為了一種現(xiàn)象…
          
                                
          
                                    
                            
          
                        
          
                        
          
                            
          
                                
          
                                    
                                
          
                                
          
                                    
          麒麟820處理器要來,6納米+EUV工藝,手有技術(shù)氣自華!
          
                                    
          華為將于2月24日21:00舉行在線新品發(fā)布會。在疫情爆發(fā)期間,手機制造商選擇在網(wǎng)上舉行發(fā)布會。據(jù)悉,此次發(fā)布會的主題是“共同未來”…
          
                                
          
                                    
                            
          
                        
          
                        
          
                            
          
                                
          
                                    
                                
          
                                
          
                                    
          2021年ASML將推下一代EUV光刻機 面向2nm、1nm工藝
          
                                    
          作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計今年出貨…
          
                                
          
                                    
                            
          
                        
          
                    
          
                    
            
          
            
          
                
          
                     
          
                    
          
                        
          EUV光刻設(shè)備市場
          
                        
          EUV lithography equipment market
          
                    
          
                
          
                    
                    
          
                        
          
                            
                            
          
                                
          
                                    
                                    
          EUV市場供不應(yīng)求，ASML或取代應(yīng)材登全球半導體設(shè)備龍頭
          
                                    
          根據(jù)外媒報導，已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導體設(shè)備龍頭的美商應(yīng)材公司（Applied Materials），2019年可能將其龍頭寶座，讓給以生產(chǎn)半導體制造過程中不可或缺曝光機的荷蘭ASML，原因是受惠即紫外光刻設(shè)備（EUV）的市場需求大增，進一步拉抬了ASML的市占率表現(xiàn)…
          
                                
          

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          2019年中國光刻機行業(yè)市場現(xiàn)狀、行業(yè)格局及發(fā)展趨勢分析
          
                                    
          光刻技術(shù)指利用光學-化學反應(yīng)原理，將電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓表面的工藝技術(shù)，光刻機是光刻工序中的一種投影曝光系統(tǒng)。其包括光源、光學鏡片、對準系統(tǒng)等。在制造過程中，通過投射光束，穿過掩膜板和光學鏡片照射涂敷在基底上的光敏性光刻膠…
          
                                
          
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