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          增強(qiáng)硅中摻鉺發(fā)光強(qiáng)度的途徑研究

          作者: 時間:2011-08-17 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          1.2 摻鉺硅的機(jī)理
          一般認(rèn)為,摻鉺硅的來源于Er離子的4f能級間的躍遷,如圖2所示。在解釋具體的機(jī)理時,必須說明Er離子在硅中的激發(fā)和退激發(fā)過程,并以此來解釋實驗現(xiàn)象。對機(jī)理的了解有助于從實驗上來提高摻鉺硅的發(fā)光效率,克服其溫度猝滅和提高發(fā)光的調(diào)制頻率。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/155896.htm

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          發(fā)光的激發(fā)和退激發(fā)過程:先討論激發(fā)過程。一般來說,Er離子被激發(fā)可以有光子激發(fā)和電子激發(fā)兩種可能性。光子激發(fā)是入射光子直接將Er的4f基態(tài)能級上的電子激發(fā)到較高的能級上去,但是,由于Er3+的光吸收截面非常小,只有1×10-20cm2,所以對有效的光致發(fā)光和電致發(fā)光(EL)來說,光子激發(fā)不是主要的。電子激發(fā)又稱載流子中介激發(fā)。它可以有兩種方式,如圖3所示。圖3(a)是激子復(fù)合激發(fā),在摻鉺硅的PL和P-N結(jié)正向偏壓作用下的EL都屬于這一種機(jī)理。其過程為:由光照或由P-N結(jié)電注入在Si中產(chǎn)生電子空穴對,然后通過受陷于一個與Er相關(guān)的位于禁帶中的能級而成為束縛激子,激子復(fù)合后產(chǎn)生能量(圖中過程1),該能量從半導(dǎo)體轉(zhuǎn)移到Er的4f殼層(過程2),使4f電子從4I15/2基態(tài)激發(fā)到第一激發(fā)態(tài)4I13/2(過程3)。另一種電子激發(fā)過程稱為載流子碰撞激發(fā),如圖3(b)所示。它發(fā)生在P-N結(jié)反向偏壓下的EL中。 P-N結(jié)勢壘區(qū)中的載流子受到強(qiáng)電場的作用而加速成為熱載流子,處于導(dǎo)帶內(nèi)高能量狀態(tài)上,當(dāng)它的動能大于0.81 eV時,就有可能通過與晶格碰撞而失去能量(過程1),這部分能量轉(zhuǎn)移給Er(過程2),激發(fā)其4f電子(過程3)。

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