化學沉積膜電阻器（chemically deposited film resistor）

　　化學沉積膜電阻器是用單純的化學反應在基體上沉積一層電阻膜而制成（如鎳—磷合金膜電阻器）。它的工藝特點是將基體經(jīng)過敏化、活化處理后，再進行化學沉積制成電阻膜，膜電阻為0.01歐/方~1兆歐/方。這種電阻器的優(yōu)點是生產(chǎn)效率高、設備簡單，可以沉積任何形狀的基體。但重復性差，薄膜易受潮氣和電解腐蝕的影響，所以需要外加可靠的保護層。