美國材料信息學(xué)會(huì)(ASM International)與日立國際電氣(Hitachi Kokusai Electric Inc.，東京證券交易所(一部)和大阪證券交易所(一部))宣布，雙方已簽署一項(xiàng)授權(quán)協(xié)議。根據(jù)此項(xiàng)協(xié)議，美國材料信息學(xué)會(huì)將把原子層沉積技術(shù)專利在批次式原子層沉積領(lǐng)域的使用權(quán)授予日立國際電氣。協(xié)議的詳細(xì)條款未對外披露。

　　多年來，美國材料信息學(xué)會(huì)一直是原子層沉積領(lǐng)域的先驅(qū)，擁有大量專利，包括原子層沉積專利以及在豎爐中成批實(shí)施原子層沉積的技術(shù)專利。這一技術(shù)使得在豎爐中實(shí)施原子層沉積并同時(shí)處理多個(gè)晶片成為可能，也為原子層沉積技術(shù)的各類應(yīng)用帶來了擁有成本的益處。

　　美國材料信息學(xué)會(huì)總經(jīng)理Albert Hasper博士表示：“美國材料信息學(xué)會(huì)的創(chuàng)新能力舉世聞名，尤其是在原子層沉積領(lǐng)域。多年來，公司政策始終注重對創(chuàng)新及其保護(hù)的投入。很高興日立國際電氣對這一IP組合的價(jià)值表示認(rèn)可，我們已通過專業(yè)而商業(yè)化的方式達(dá)成了一項(xiàng)協(xié)議，符合雙方的共同利益。隨著市場對廉價(jià)原子層沉積產(chǎn)能的需求與日俱增，我們相信，轉(zhuǎn)讓這一技術(shù)，并允許其他供應(yīng)商與我們一道滿足這一需求，對半導(dǎo)體行業(yè)而言是極為有利的?！?/P>

　　日立國際電氣總經(jīng)理Shoichiro Izumi先生表示：“很早以前，我們便已開始投身批次式原子層沉積技術(shù)的開發(fā)，并致力于為顧客提供優(yōu)質(zhì)的半導(dǎo)體設(shè)備。我們相信，此項(xiàng)協(xié)議將推動(dòng)原子層沉積技術(shù)的發(fā)展，我們也將進(jìn)一步為顧客創(chuàng)造福利。”