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          CMOS開(kāi)關(guān)電路原理

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          作者: 時(shí)間:2008-01-03 來(lái)源:電子元器件網(wǎng) 收藏

            圖1為CMOS模擬開(kāi)關(guān)電路原理圖。它克服了NMOS模擬開(kāi)關(guān)電路Ron雖vI增大而增大的缺點(diǎn),擴(kuò)大輸入信號(hào)幅度的范圍;而且可以在CMOS電路基礎(chǔ)上增設(shè)輔助電路,消除NMOSFET的襯底效應(yīng)對(duì)Ron的影響。

          圖1 原理

            假定控制信號(hào)vc高電平VCH=VDD為邏輯“1”,低電平VCL=-Vss(取Vss=VDD)為邏輯“0”。T1襯底電壓VB1=-Vss,T2襯底電壓VB2=VDD。從圖可知,vc直接輸送到T1的柵極,而T2的柵極電壓是vc經(jīng)非門(T3、T4組成)倒相后的電壓。當(dāng)vc=“1”時(shí),VG1=VDD,VG2=-Vss。所以當(dāng)vI為接近-Vss低電平時(shí),vGS1=(vG2-vI)=(VDD-vI)>VT,T1完全導(dǎo)通,vGS2=(vG2-vI)=(Vss-vI),即vGS2<VT,T2截止,iD2=0;反之,當(dāng)vI為接近VDD高電平時(shí),則T2完全導(dǎo)通,T1截止。而當(dāng)vc=“0”時(shí),T1、T2均截止。由于開(kāi)關(guān)閉合時(shí),T1和T2并聯(lián),互相補(bǔ)償,使vI在-Vss~VDD范圍內(nèi)變化,Ron基本不變。CMOS開(kāi)關(guān)Ron與vI的關(guān)系如圖2所示。

            為了消除NMOSFET的襯底調(diào)制效應(yīng)對(duì)Ron的不良影響,通常在CMOS開(kāi)關(guān)原理電路基礎(chǔ)上增設(shè)輔助電路。如圖3所示中,增加了非門PI2和T3~T5。當(dāng)vc=“1”時(shí),因非門PI1、PI2倒相,T5截止,vI經(jīng)T3、T4加到T1襯底B1上,同時(shí),vI又直接加到T1的源極S1上,于是vBS1=0,且與vI大小無(wú)關(guān),從而消除了T1的襯底調(diào)制效應(yīng)。T2為PMOSFET,雖然vB2=VDD,但因PMOSFET的襯底調(diào)制效應(yīng)很小,故vBS2隨vI變化對(duì)Ron的影響可略。

            圖1  CMOS開(kāi)關(guān)Ron與vI的關(guān)系                      圖2  含輔助電路



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