高隔離度X波段RF MEMS電容式并聯(lián)開關(guān)
當(dāng)在開關(guān)梁與傳輸線中心導(dǎo)體之間施加直流偏置電壓時,梁上的靜電力使其離開初始平衡位置向下運(yùn)動。當(dāng)直流偏置電壓達(dá)到閾值電壓時,開關(guān)下降到上下電極初始間距的2/3處進(jìn)入不穩(wěn)定狀態(tài),并使開關(guān)迅速被吸引致閉合,即"pull-in"現(xiàn)象。其中,閾值電壓 本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/87630.htm
式中:k為梁的等效彈性系數(shù);ε0為空氣的介電常數(shù);W為CPW中心傳輸線的寬度;ω為開關(guān)梁中心極板的寬度;g0為梁與下電極的間距。等效彈性系數(shù)k可以表達(dá)為
式中:E為梁材料的楊氏模量;t為彈性梁的厚度;Lm為梁的長度;σ為梁的殘余應(yīng)力;v為梁材料的泊松比。
為減小梁的彈性系數(shù)從而使執(zhí)行電壓降低,本文采用了圖5所示的兩個彎曲的彈簧梁結(jié)構(gòu)。其中,一個彎曲的彈簧梁的等效彈性系數(shù)可以表達(dá)為
2 結(jié)果與討論
本文使用有限元軟件IntelliSuite對開關(guān)模型進(jìn)行機(jī)械特性分析。CPW和開關(guān)梁材料均為Au;Si襯底上熱氧化生長形成厚度為400 nm的SiO2用作電氣隔離層;犧牲層采用PSG(磷硅玻璃),通過濕法刻蝕釋放該犧牲層;襯底刻槽使用KOH溶液濕法刻蝕得到。表1給出了仿真過程中開關(guān)的材料特性與結(jié)構(gòu)參數(shù)。
圖6是開關(guān)梁位移隨上極板與下極板間電勢差的變化曲線。從圖6(a)可以看出,平板梁開關(guān)結(jié)構(gòu)的執(zhí)行電壓為26 V。由圖6(b)可知彈簧梁開關(guān)結(jié)構(gòu)的執(zhí)行電壓降低到14 V。
本文使用HFSS軟件對開關(guān)的微波傳輸性能進(jìn)行分析。圖7是平板梁開關(guān)結(jié)構(gòu)S參數(shù)隨頻率的變化曲線,可以獲得襯底刻槽結(jié)構(gòu)的RF MEMS電容式并聯(lián)開關(guān)在閉態(tài)時,5~30 GHz下S11小于-0.25 dB,隔離度在諧振頻率13.5 GHz處為-54.6 dB,,相比于虛線所示的傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)開關(guān)-47.2dB的隔離度,本文設(shè)計的襯底刻槽使開關(guān)的隔離度性能在諧振頻率處提高7 dB。
圖8為彈簧梁開關(guān)結(jié)構(gòu)的S參數(shù)仿真結(jié)果,可以看出由彈簧梁結(jié)構(gòu)引入的串聯(lián)電感使諧振頻率降低至11 GHz,在諧振點(diǎn)處的隔離度為-42.8 dB。從圖中可以看出,是否具有襯底刻槽結(jié)構(gòu)對彈簧梁開關(guān)的S參數(shù)曲線影響不大,僅在20 GHz以后的頻段獲得了輕微的隔離性能改善。襯底刻槽對彈簧梁結(jié)構(gòu)RF MEMS開關(guān)的隔離度性能改善不大的原因,可能是彈簧梁結(jié)構(gòu)引入了較大的串聯(lián)電感和串聯(lián)電阻,增加了傳輸損耗。
圖9為π型調(diào)諧開關(guān)電路的S參數(shù)隨頻率的變化曲線。如圖所示,采用彈簧梁開關(guān)結(jié)構(gòu)的電路在諧振頻率11.5 GHz處獲得了-81.6dB的隔離度。相對于彈簧梁結(jié)構(gòu),采用平板梁開關(guān)結(jié)構(gòu)的π型調(diào)諧電路在諧振頻率14 GHz處的隔離度為-72 dB,并且在較寬的帶寬范圍內(nèi)具有更高的隔離性能。
3 結(jié) 論
本文設(shè)計并分析了一種通過襯底刻槽提高RFMEMS電容式并聯(lián)開關(guān)隔離度的新型結(jié)構(gòu)。使用有限元軟件IntelliSuite和HFSS分析了該結(jié)構(gòu)的機(jī)械特性和微波性能,平板梁開關(guān)結(jié)構(gòu)的執(zhí)行電壓約為26 V,開關(guān)關(guān)態(tài)時在13.5 GHz諧振頻率處的隔離度為-54.6 dB,相比沒有襯底刻槽的并聯(lián)開關(guān)隔離度提高了7 dB。采用彈簧梁結(jié)構(gòu)的開關(guān)的執(zhí)行電壓下降為14 V,隔離度在11 GHz處為-42.8 GHz。為獲得更高的隔離性能,本文分析了π型調(diào)諧開關(guān)電路,采用平板梁和彈簧梁開關(guān)結(jié)構(gòu)的電路分別在14 GHz和11.5 GHz處獲得了-72 dB和-81.6 dB的隔離度。所設(shè)計的開關(guān)通過添加襯底刻蝕工藝程序,增大了RF MEMS開關(guān)電路的隔離度,有利于提高單片射頻微波電路的集成度和隔離度性能
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