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          EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 制程標(biāo)準(zhǔn)

          AI芯片供不應(yīng)求,業(yè)界:半導(dǎo)體后端制程標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)統(tǒng)一

          • 在各大半導(dǎo)體廠商搶攻AI商機(jī)之際,芯片產(chǎn)能卻趕不上需求。產(chǎn)業(yè)專家認(rèn)為高端芯片產(chǎn)能擴(kuò)張速度不夠快的原因在于,各家廠商采用不同封測(cè)技術(shù),并呼吁業(yè)界盡早統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)。國(guó)際半導(dǎo)體行業(yè)組織SEMI日本辦事處總裁Jim Hamajima表示,芯片行業(yè)需要更多后端或后期生產(chǎn)流程的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),以使英特爾和臺(tái)積電等公司能夠更有效地提高產(chǎn)能。當(dāng)前,臺(tái)積電、英特爾等半導(dǎo)體公司正在后端流程中嘗試獨(dú)特的解決方案,但都使用不同的標(biāo)準(zhǔn),這樣的話效率并不高。Jim Hamajima表示,包括芯片封裝和測(cè)試在內(nèi)的后端工藝比芯片制造的早期階段(如
          • 關(guān)鍵字: AI芯片  半導(dǎo)體后端  制程標(biāo)準(zhǔn)  

          3D IC制程標(biāo)準(zhǔn)須與國(guó)際接軌

          •   日前,在SEMI臺(tái)灣和臺(tái)工研院共同主辦、先進(jìn)堆疊系統(tǒng)與應(yīng)用研發(fā)聯(lián)盟(Ad-STAC)協(xié)辦的“SEMI國(guó)際技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)制訂與全球3D IC技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)研討會(huì)”中,半導(dǎo)體制造聯(lián)盟(SEMATECH) 3D Enablement Center的Richard A. Allen,以及SEMI資深協(xié)理James Amano,分享了數(shù)項(xiàng)SEMI國(guó)際技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)最新發(fā)展、成功案例,以及國(guó)際上3D IC技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)之布局。   
          • 關(guān)鍵字: 3D IC  制程標(biāo)準(zhǔn)  
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          制程標(biāo)準(zhǔn)介紹

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