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          半導(dǎo)體專利侵權(quán)樣本調(diào)查:中微遭應(yīng)用材料起訴

          •   在離開跨國(guó)公司創(chuàng)業(yè)的第三個(gè)年頭,中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司(以下簡(jiǎn)稱“中微”)董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官尹志堯意外地成為了被告:一封來自美國(guó)應(yīng)用材料公司的通知告訴他,中微海外母公司及上海運(yùn)營(yíng)公司,被控告涉嫌盜用商業(yè)秘密、違反合同和不公平競(jìng)爭(zhēng)。   提起這項(xiàng)指控的不是別人,而是尹志堯的“老東家”。在此之前,作為應(yīng)用材料重要產(chǎn)品——等離子蝕刻機(jī)事業(yè)群的主要負(fù)責(zé)人,尹志堯?yàn)檫@家全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商服務(wù)長(zhǎng)達(dá)13年之久。   應(yīng)用材料認(rèn)為,訴訟案中所有的共同被告,都曾在應(yīng)用材料工作過,尹志堯在辭去應(yīng)用材料
          • 關(guān)鍵字: 應(yīng)用材料  半導(dǎo)體專利  侵權(quán)  
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          半導(dǎo)體專利介紹

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