英飛凌利用多柵技術取得創(chuàng)新突破

• 英飛凌利用多柵技術取得創(chuàng)新突破:三維制勝——全新半導體結構大幅度改善能源效率 多柵場效應晶體管技術有望成為應對集成電路小型化所帶來的各種技術挑戰(zhàn)的理想解決方案。與當今的平面單柵技術相比，多柵技術能夠在保持高功能性的同時大幅度削減功耗。在這項新技術的一次演示中，英飛凌研究人員成功測試世界上第一個運用全新65納米多柵晶體管結構制造的復雜集成電路。與目前具有同等功能與性能的平面單柵晶體管相比，全新晶體管的尺寸要小30%，靜態(tài)電流值降低了十倍。據(jù)研究人員計算，這種多柵技術將大大提高移動設備的能源效率和電池工作時間
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