SEMI：2013年全球光刻掩膜板市場預(yù)計可達33.5億美元規(guī)模

• 技術(shù)問題更讓人頭痛，隨著線寬必須不斷縮小的趨勢下，廠商面臨諸多艱巨的挑戰(zhàn)，更多先進的光刻掩膜板工具和材料必須應(yīng)運而生，但卻僅有部份的客戶會轉(zhuǎn)移至更小尺寸的產(chǎn)品，而且似乎對于專有光刻掩膜板廠商的依賴也日益加深，因此批發(fā)式光刻掩膜板產(chǎn)業(yè)必須在一個正在萎縮的市場上找到它的平衡點，既能進行技術(shù)升級發(fā)展也能兼顧資本成本。 　　SEMI最近發(fā)表了《Photomask Characterization Summary》，對2011年的光刻掩膜板市場提供詳細(xì)的分析，并以全球七個主要地區(qū)，包括北美、日本、歐洲、臺灣、
• 關(guān)鍵字： 光刻  掩膜板