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          臺(tái)積電官宣6nm工藝!7nm加強(qiáng)版也有極紫外光刻

          • 這幾年,曾經(jīng)執(zhí)行業(yè)牛耳的Intel在新工藝方面進(jìn)展遲緩,10nm工藝遲遲無法規(guī)模量產(chǎn),一個(gè)很關(guān)鍵的原因就是對(duì)技術(shù)指標(biāo)要求高,投產(chǎn)難度大。
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  6nm  7nm加強(qiáng)版  
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          7nm加強(qiáng)版介紹

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