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          CVPR21小目標(biāo)檢測(cè):上下文和注意力機(jī)制提升小目標(biāo)檢測(cè)

          發(fā)布人:CV研究院 時(shí)間:2022-04-14 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章
          CVPR21文章我們也分享了很多最佳的框架,在現(xiàn)實(shí)場(chǎng)景中,目標(biāo)檢測(cè)依然是最基礎(chǔ)最熱門(mén)的研究課題,尤其目前針對(duì)小目標(biāo)的檢測(cè),更加吸引了更多的研究員和企業(yè)去研究,今天我們“計(jì)算機(jī)視覺(jué)研究院”給大家分享一個(gè)小目標(biāo)檢測(cè)精度提升較大的新框架!

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          論文:

          https://arxiv.org/pdf/1912.06319.pdf


          1簡(jiǎn)要


          在各種環(huán)境中應(yīng)用目標(biāo)檢測(cè)算法有很多局限性。特別是檢測(cè)小目標(biāo)仍然具有挑戰(zhàn)性,因?yàn)樗鼈兎直媛实?,信息有限?/span>圖片有研究員提出了一種利用上下文的目標(biāo)檢測(cè)方法來(lái)提高檢測(cè)小目標(biāo)的精度。該方法通過(guò)連接多尺度特征,使用了來(lái)自不同層的附加特征作為上下文。研究員還提出了具有注意機(jī)制的目標(biāo)檢測(cè),它可以關(guān)注圖像中的目標(biāo),并可以包括來(lái)自目標(biāo)層的上下文信息。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該方法在檢測(cè)小目標(biāo)方面的精度高于傳統(tǒng)的SSD框架。

          2 背景



          下圖顯示了SSD框架無(wú)法檢測(cè)到小目標(biāo)時(shí)的案例情況。對(duì)小目標(biāo)的檢測(cè)還有很大的改進(jìn)空間。

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          由于低分辨率低,像素有限,小目標(biāo)檢測(cè)很困難。例如,通過(guò)只看下圖上的目標(biāo),人類甚至很難識(shí)別這些物體。然而,通過(guò)考慮到它位于天空中的背景,這個(gè)物體可以被識(shí)別為鳥(niǎo)類。因此,我們認(rèn)為,解決這個(gè)問(wèn)題的關(guān)鍵取決于我們?nèi)绾螌⑸舷挛淖鳛轭~外信息來(lái)幫助檢測(cè)小目標(biāo)。

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          3 新框架分析


          新框架將從基線SSD開(kāi)始討論,然后是研究者提出的提高小目標(biāo)檢測(cè)精度的組件。首先,SSD與特征融合,以獲取上下文信息,名為F-SSD;第二,帶有保留模塊的SSD,使網(wǎng)絡(luò)能夠關(guān)注重要部件,名為A-SSD;第三,研究者結(jié)合了特征融合和注意力模塊,名為FA-SSD。

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          F-SSD: SSD with context by feature fusion

          為了為給定的特征圖(目標(biāo)特征圖)在我們想要檢測(cè)目標(biāo)的位置提供上下文,研究者將其與目標(biāo)特征層更高層次的特征圖(上下文特征)融合。例如,在SSD中,給定我們來(lái)自conv4_3的目標(biāo)特性,我們的上下文特征來(lái)自兩層,它們是conv7和conv8_2。

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          雖然新框架的特征融合可以推廣到任何目標(biāo)特征和任何更高的特征。然而,這些特征圖具有不同的空間大小,因此研究者提出了如上圖所示的融合方法。在通過(guò)連接特征進(jìn)行融合之前,對(duì)上下文特征執(zhí)行反卷積,使它們具有與目標(biāo)特征相同的空間大小。將上下文特征通道設(shè)置為目標(biāo)特征的一半,因此上下文信息的數(shù)量就不會(huì)超過(guò)目標(biāo)特征本身。僅僅對(duì)于F-SSD,研究者還在目標(biāo)特征上增加了一個(gè)額外的卷積層,它不會(huì)改變空間大小和通道數(shù)的卷積層。

          此外,在連接特征之前,標(biāo)準(zhǔn)化步驟是非常重要的,因?yàn)椴煌瑢又械拿總€(gè)特征值都有不同的尺度。因此,在每一層之后進(jìn)行批處理歸一化和ReLU。最后通過(guò)疊加特征來(lái)連接目標(biāo)特征和上下文特征。

          A-SSD: SSD with attention module

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          如上圖,它由一個(gè)trunk分支和一個(gè)mask分支組成。trunk分支有兩個(gè)殘差塊,每個(gè)塊有3個(gè)卷積層,如上圖d所示;mask分支通過(guò)使用殘差連接執(zhí)行下采樣和上采樣來(lái)輸出注意圖(圖b為第一階段和圖c為第二階段),然后完成sigmoid激活。殘差連接使保持下采樣階段的特征。然后,來(lái)自mask分支的注意映射與trunk分支的輸出相乘,產(chǎn)生已參與的特征。最后,參與的特征之后是另一個(gè)殘差塊,L2標(biāo)準(zhǔn)化,和ReLU。

          FA-SSD: Combining feature fusion and atten- tion in SSD

          研究者提出了以上的兩個(gè)特征的方法,它可以考慮來(lái)自目標(biāo)層和不同層的上下文信息。與F-SSD相比,研究者沒(méi)有在目標(biāo)特征上執(zhí)行一個(gè)卷積層,而是放置了one stage的注意模塊,如下圖所示。

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          4 實(shí)驗(yàn)


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          ResNet SSD with feature fusion + attention module (FA- SSD)

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          紅色框是GT,綠色框是預(yù)測(cè)的


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          注意力模塊的可視化。有些通道關(guān)注目標(biāo),有些通道關(guān)注上下文。conv4_3上的注意模塊具有更高的分辨率,因此與conv7上的注意相比,可以關(guān)注更小的細(xì)節(jié)。


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          關(guān)鍵詞: AI

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