#時(shí)事熱點(diǎn)頭條說#

據(jù)新加坡《南華早報(bào)》(SCMP)報(bào)道，中國(guó)計(jì)劃采用一種創(chuàng)新的方法，利用粒子加速器制造芯片處理器，有可能成為先進(jìn)芯片制造的全球領(lǐng)導(dǎo)者。《南華早報(bào)》表示，這種方法旨在避開傳統(tǒng)光刻機(jī)的限制和美國(guó)對(duì)EUV技術(shù)的制裁，可能會(huì)重塑半導(dǎo)體行業(yè)的格局。

由清華大學(xué)領(lǐng)導(dǎo)的中國(guó)研究小組正在利用粒子加速器開發(fā)一種獨(dú)特的EUV光源，目標(biāo)是避開傳統(tǒng)光刻機(jī)的限制。擬議中的粒子加速器大約有兩個(gè)籃球場(chǎng)那么大，周長(zhǎng)在100-150米之間，將為芯片制造提供高質(zhì)量的特定波長(zhǎng)的光源。

斯坦福大學(xué)的趙武教授介紹了其基礎(chǔ)技術(shù)——穩(wěn)態(tài)微束(SSMB)。SSMB捕獲帶電粒子在加速過程中釋放的能量，將其轉(zhuǎn)化為連續(xù)的純EUV光源。與目前流行的ASML EUV方法相比，SSMB具有更高的功率和效率，有可能降低芯片生產(chǎn)成本。

團(tuán)隊(duì)成員潘志龍教授在2022年1月的一次學(xué)術(shù)研討會(huì)上說:“清華大學(xué)已經(jīng)設(shè)計(jì)出了一個(gè)SSMB-EUV光源，設(shè)計(jì)的EUV功率高于1kW，一些關(guān)鍵技術(shù)已經(jīng)準(zhǔn)備就緒。”

這一雄心勃勃的項(xiàng)目與專注于芯片制造機(jī)器小型化的阿斯麥等公司的戰(zhàn)略形成了鮮明對(duì)比。相反，中國(guó)的愿景是建立一個(gè)巨大的工廠，里面有數(shù)十臺(tái)光刻機(jī)，都圍繞著一個(gè)加速器。該設(shè)計(jì)旨在實(shí)現(xiàn)具有競(jìng)爭(zhēng)力的制造工藝(如2nm及以上)，這些工藝將用于制造高性能芯片，而無需使用傳統(tǒng)的極紫外(EUV)光刻機(jī)。

清華大學(xué)的項(xiàng)目負(fù)責(zé)人唐傳祥教授表示：“作為一種全新的光源，該技術(shù)的實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證已經(jīng)實(shí)現(xiàn)。但有必要建立一個(gè)在EUV波段工作的固體SSMB光源研究設(shè)備，然后我們可以利用該設(shè)備供給工業(yè)界使用，并完善SSMB技術(shù)。”

據(jù)報(bào)道，清華大學(xué)的團(tuán)隊(duì)在這一領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展，現(xiàn)在正在為該項(xiàng)目的建設(shè)尋找地點(diǎn)。然而，實(shí)現(xiàn)基于SSMB的EUV光刻機(jī)的旅程仍然漫長(zhǎng)而充滿挑戰(zhàn)。唐傳祥教授強(qiáng)調(diào)需要不斷創(chuàng)新和跨行業(yè)合作來開發(fā)一個(gè)功能齊全的光刻系統(tǒng)。

“在我們獨(dú)立開發(fā)EUV光刻機(jī)之前還有很長(zhǎng)的路要走，但基于SSMB的EUV光源為我們提供了一種替代現(xiàn)有技術(shù)的選擇，需要基于SSMB EUV光源的持續(xù)技術(shù)創(chuàng)新，并與上下游行業(yè)合作，才有機(jī)會(huì)構(gòu)建可用的光刻系統(tǒng)。”