4月13日消息，據(jù)法國媒體LeMagIT報道，日本光學技術領導廠商 Hoya Corporation （豪雅）最近承認其遭遇了勒索軟件的攻擊，其總部和幾個業(yè)務部門IT系統(tǒng)受到了影響。如果不支付1000萬美元，其包括EUV掩模坯料和光掩模（光罩基底及光罩）在內的機密可能將會被曝光。

據(jù)報道，針對Hoya網(wǎng)絡攻擊是由“Hunters International”（國際獵人）發(fā)起的。該組織被認為是在美國聯(lián)邦調查局與德國和荷蘭執(zhí)法部門合作打掉了臭名昭著的勒索軟件組織 Hive 之后成立的。盡管有證據(jù)，但“Hunters International”否認與Hive有任何聯(lián)系。

Hunters International要求Hoya支付1000萬美元，才能解鎖被勒索軟件加密的文件。作為交易的一部分，Hunters International承諾不發(fā)布其從Hoya 竊取的 170 萬個文件（2TB 數(shù)據(jù)）中的任何一個。

官網(wǎng)資料顯示，Hoya 于 1941 年在日本東京成立，是一家全球醫(yī)療技術公司，也是創(chuàng)新高科技和醫(yī)療產(chǎn)品的領先供應商。Hoya 活躍于醫(yī)療保健和信息技術領域，提供眼鏡、醫(yī)用內窺鏡、人工晶狀體、光學鏡片以、掩模坯料和光掩模（即光罩基底和光罩）、液晶面板光掩模和硬盤驅動器的的玻璃磁盤等關鍵部件。目前 Hoya 在全球擁有約 160 個辦事處和子公司，擁有約 36,000 名跨國員工。

據(jù)介紹，掩模坯料和光掩模在半導體芯片的生產(chǎn)中至關重要。它們是用于將半導體微小、高度復雜的電路圖案轉移到成為 IC 芯片的晶圓上的模板。為了提高半導體的電路密度，目前極紫外（EUV）光刻技術的發(fā)展正在進行中，而HOYA正是全球最大的EUV光罩基底供應商。

近年來，隨著EUV工藝在7nm及以下先進制程的廣泛應用，推動了對于EUV光罩及其所需的EUV光罩基底的需求。對此，HOYA也在持續(xù)擴大其在日本和新加坡的EUV光罩基底產(chǎn)能。HOYA CEO池田英一郎CEO曾表示：“半導體工藝若能突破2nm制程，豪雅便能在市場占據(jù)領先地位”。

報道稱，由于Hoya是半導體行業(yè)的重要參與者，也是EUV光刻產(chǎn)品開發(fā)的領導者，因此，其商業(yè)機密對競爭對手或受到EUV技術出口限制的國家可能特別有價值。所以，Hoya希望能夠采取行動，以便數(shù)據(jù)不會被出售給或“意外”泄露給受制裁的國家。

編輯：芯智訊-浪客劍