1986年，電子部廈門(mén)集成電路發(fā)展戰(zhàn)略研討會(huì)，提出“七五”期間我國(guó)集成電路技術(shù)“531”發(fā)展戰(zhàn)略，即普及推廣5微米技術(shù)，開(kāi)發(fā)3微米技術(shù)，進(jìn)行1微米技術(shù)科技攻關(guān),并提出建設(shè)南北兩個(gè)IC基地，南方基地在江蘇、上海、浙江長(zhǎng)江三角洲地帶，北方基地在北京。