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          張忠謀:臺積電將向14nm以下工藝挺進

          作者: 時間:2010-04-16 來源:驅(qū)動之家 收藏

            CEO兼董事長張忠謀近日在加州圣何塞的一次技術(shù)會議上表示,將會和整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一起,向14nm以下的制造工藝進軍。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/108010.htm

            張忠謀認為,2011-2014年間的全球半導(dǎo)體市場的發(fā)展速度不會很快,原因有很多,其中之一就是受摩爾定律制約,技術(shù)發(fā)展的速度會趨于緩慢。

            張忠謀表示,2xnm時代眼下很快就要到來,1xnm時代也會在可預(yù)見的未來內(nèi)成為現(xiàn)實,而或許無法在他的任期內(nèi)走向1xnm,但肯定會竭盡全力將半導(dǎo)體制造技術(shù)帶向新的水平。

            臺積電2010年間的資本支出預(yù)算高達48億美元,全公司員工總數(shù)也會從2萬人增至2.9萬人,這都是為了應(yīng)對難度越來越高的半導(dǎo)體工藝而做成的努力。

            張忠謀還指出,臺積電對全球芯片市場2010-2011年間的估計不會有很大變化:連續(xù)下滑兩年后今年有望增長22%,不過明年只有7%。

            臺積電目前還在完善40nm,下一站將是,再往后是跳過而走向20nm。



          關(guān)鍵詞: 臺積電 22nm 28nm

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