近日，由北方微電子開發(fā)的ELEDETM330高密度等離子ICP刻蝕機完成組裝調(diào)試，正式交付客戶使用。ELEDETM330是北方微電子半導(dǎo)體刻蝕技術(shù)在LED領(lǐng)域的成功擴展，該設(shè)備的成功上線，標志著國產(chǎn)LED刻蝕設(shè)備已得到主流生產(chǎn)線的認可，使我國高端LED設(shè)備的國產(chǎn)化水平得到了新的提升。

　　北方微電子多年來一直致力于半導(dǎo)體高端工藝裝備的研發(fā)與制造。2009年北方微電子借助半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備領(lǐng)域積累的豐富經(jīng)驗，開發(fā)了專為LED生產(chǎn)領(lǐng)域的刻蝕應(yīng)用而全新設(shè)計的感應(yīng)耦合高密度等離子體刻蝕機。作為我國首臺直接面向LED生產(chǎn)線的大產(chǎn)能刻蝕設(shè)備，ELEDE™330可滿足藍寶石襯底圖形化刻蝕、Si襯底刻蝕以及GaN基外延層刻蝕等LED領(lǐng)域所有刻蝕應(yīng)用。ELEDE™330采用了適用于大規(guī)模生產(chǎn)的高產(chǎn)能設(shè)計，一次可完成27片2英寸GaN基外延層刻蝕或22片2英寸藍寶石襯底刻蝕，大大提高設(shè)備產(chǎn)出效率;系統(tǒng)集成了高密度等離子體源、高壽命機械卡盤、精密的腔室溫度控制系統(tǒng)、穩(wěn)定的高精度壓力控制系統(tǒng)、IC標準的中央噴嘴進氣系統(tǒng)和IC級別的腔室表面處理等多項先進技術(shù)，用IC刻蝕工藝更為精密的設(shè)計要求來實現(xiàn)LED領(lǐng)域更高性能的刻蝕工藝，以更大程度地提高LED芯片的發(fā)光效率。

　　雖然有個濃厚的國企背景，但北方微電子正穩(wěn)步走在市場化的道路上。據(jù)介紹，北方微電子IC刻蝕正在進行32nm技術(shù)的研發(fā)，努力追趕世界的腳步。同時依托多年來技術(shù)的積累，北方微電子在PV與LED刻蝕領(lǐng)域積極開發(fā)除了市場化的產(chǎn)品，讓業(yè)界感受到了國際化技術(shù)與本土化價格和服務(wù)的魅力。