法國(guó)研究機(jī)構(gòu)CEA-Leti最近開(kāi)始提升其三維芯片封裝的生產(chǎn)能力，CEA-Leti在Grenoble 有一條300 mm 的CMOS 研發(fā)型生產(chǎn)線，目前專門用于三維芯片封裝的試驗(yàn)。

　　CEA-Leti 稱他們已經(jīng)可以向客戶提供 200 和 300 mm 晶圓的多種封裝技術(shù)和工具，其中包括三維定向光刻、深度刻蝕、介質(zhì)淀積、表面金屬化等。