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          應(yīng)用材料:2016年晶圓廠設(shè)備支出有望擴(kuò)增

          作者: 時間:2016-02-15 來源:新電子 收藏

              

           

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/201602/286887.htm

            應(yīng)用材料集團(tuán)副總裁暨臺灣區(qū)總裁余定陸認(rèn)為,在3D NAND和10奈米技術(shù)帶動下,今年代工資本支出有望回升。

            應(yīng) 用材料集團(tuán)副總裁暨臺灣區(qū)總裁與全球半導(dǎo)體業(yè)務(wù)服務(wù)群跨區(qū)域總經(jīng)理余定陸表示,2015年看到這四年以來代工的資本支出進(jìn)入谷底,預(yù)估今年投資水位有 望提升,而大部分支出將發(fā)生在下半年,其中有五成以上將集中于10奈米技術(shù);對代工來說,10奈米不同于16奈米,最顯著變化在于鰭式場效電晶體 ()和導(dǎo)線技術(shù)能改善元件性能和功耗。

            余定陸進(jìn)一步指出,記憶體制造商在電晶體過渡到3D NAND面臨非常大的壓力。記憶體廠商在加速3D NAND技術(shù)量產(chǎn)時,投資一定會比前一年增加。由于研發(fā)成本非常的高,記憶體廠商與設(shè)備供應(yīng)商的合作也將更加緊密,通常都會提早2至3年開始合作,否則無 法做出成品。

            另一方面,余定陸透露,半導(dǎo)體廠商對于蝕刻(Etch)和化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)技術(shù)需求很高,他表示,應(yīng)材在2015年半導(dǎo)體設(shè)備的訂單與營收達(dá)到自2007年以來的新高,其中蝕刻、化學(xué)氣相沉積(CVD)、化學(xué)機(jī)械研磨等產(chǎn)品所貢獻(xiàn)的營收都創(chuàng)下近年來的新高點。

            整體而言,余定陸認(rèn)為今年半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)仍有成長空間。雖然智慧型手機(jī)出貨量的成長放緩,高端手機(jī)競爭激烈,使得半導(dǎo)體廠商面臨巨大的壓力,但半導(dǎo)體商仍須運用設(shè)備來制造先進(jìn)的晶片,增添手機(jī)新功能,提供產(chǎn)品差異化。因此,依舊看好對于晶圓代工設(shè)備的資本支出。



          關(guān)鍵詞: 晶圓 FinFET

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