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          Mentor擴展解決方案以支持TSMC 7nm FinFET Plus和12nm FinFET工藝技術(shù)

          作者: 時間:2017-09-22 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

            , a Siemens business 今日宣布  Calibre? nmPlatform 和 Analog FastSPICE? (AFS?) Platform 獲得 TSMC 12nm FinFET Compact Technology (12FFC) 和最新版本 7nm FinFET Plus 工藝的認證。Nitro-SoCTM 布局和布線系統(tǒng)也通過了認證,可以支持 TSMC 的 12FFC 工藝技術(shù)。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/201709/364676.htm

            TSMC 設(shè)計基礎(chǔ)架構(gòu)營銷部高級總監(jiān) Suk Lee 說道:“TSMC 很榮幸與  展開密切合作,Mentor 為工具流程提供了更多功能,以便支持我們的全新 12nm 和 7nm FinFET Plus 工藝,從而繼續(xù)增加其對 TSMC 生態(tài)系統(tǒng)的價值。多年以來,Mentor 一直都是我們的戰(zhàn)略合作伙伴,西門子承諾繼續(xù)在 Mentor 的電子設(shè)計自動化 (EDA) 技術(shù)領(lǐng)域進行投資,我們也期望幫助雙方的共同客戶向市場推出更加令人驚嘆的全新 IC 創(chuàng)新產(chǎn)品?!?/p>

            適用于 TSMC 12nm 和 7nm FinFET Plus 的 Mentor Calibre nmPlatform

            Mentor 針對 TSMC最新版本的 12nm 和 7nm FinFET Plus 工藝,增強了 Calibre nmDRC? 和 Calibre nmLVS? 工具的功能。Mentor 與 TSMC 攜手合作,不僅確保適當?shù)母采w率,還優(yōu)化了設(shè)計套件的運行速度。此外,TSMC 和 Mentor 還展開了合作,以便雙方的共同客戶能夠了解 Calibre 設(shè)計規(guī)則檢查 (DRC) 和多重曝光軟件方面的極紫外 (EUV) 光刻要求。

            Calibre xACT? 寄生參數(shù)提取工具也通過了 TSMC 的 12nm v1.0 和最新版本 7nm FinFET Plus 的認證,達到了必需的精確度要求。

            不僅 Calibre YieldEnhancer 工具獲得了 TSMC 的 12nm 和 7nm FinFET Plus 工藝的認證,Mentor 和 TSMC 還聯(lián)手提供了增強使用模型,旨在優(yōu)化填充運行時間,通過工程變更指令填充 (ECO Fill) 來最大程度地減少形狀移除,使用“隨時填充”方法確保所有層之間的一致性。

            Calibre PERC? 可靠性平臺是適用于 IP 和全芯片可靠性分析的驗證解決方案。對于當今復雜密集的芯片設(shè)計而言,點對點和電流密度可靠性檢查是至關(guān)重要的,但要在大型 12nm 和 7nm FinFET Plus 設(shè)計上完成這些檢測,必須具備可擴展性。TSMC 和 Mentor 共同協(xié)作,實現(xiàn)了 Calibre PERC 解決方案,充分利用全新的多 CPU 運行功能,讓共同客戶能夠更快地發(fā)現(xiàn)和解決他們設(shè)計中的全芯片可靠性問題。

            適用于 TSMC 12nm 和 7nm FinFET Plus 的 Mentor AFS 平臺

            AFS 平臺,包括 AFS Mega 電路仿真器,獲得了 TSMC 的 12nm 和 TSMC 7nm FinFET Plus 工藝的認證。AFS 平臺支持面向移動和 HPC 應(yīng)用的 TSMC 設(shè)計平臺的所有必需功能。全球領(lǐng)先的半導體公司的模擬、混合信號和射頻 (RF) 設(shè)計團隊均使用 AFS 平臺對采用最新 TSMC 技術(shù)的芯片進行驗證,并從中大獲裨益。

            適用于 TSMC 12nm 的 Mentor Nitro-SoC

            Mentor 的 Nitro-SoCTM 布局布線系統(tǒng)獲得了 TSMC 的 12nm 工藝的認證。除了支持 12nm 工藝規(guī)則之外,Mentor 還增強了 Nitro-SoC 的內(nèi)核引擎,以滿足這種高密度、高能效工藝的全新標準單元架構(gòu)要求和設(shè)計規(guī)則。這使得 Mentor 能夠為 12nm 節(jié)點提供數(shù)字實施流程。

            Mentor 副總裁兼 Design to Silicon 事業(yè)部總經(jīng)理 Joe Sawicki 說道:“Mentor 非常榮幸能夠成為 TSMC 生態(tài)系統(tǒng)的重要組成部分。今年,TSMC 和 Mentor 聯(lián)手提供了眾多解決方案,繼續(xù)為共同客戶提供多種設(shè)計方法,以促進移動、高性能計算、汽車、物聯(lián)網(wǎng)、可穿戴設(shè)備市場的 IC 創(chuàng)新。”

            記者聯(lián)系:

            Mike Santarini

            電話:510-354-7322

            E-mail:mike_santarini@mentor.com

            Siemens 業(yè)務(wù)部門 Mentor 是電子硬件和軟件設(shè)計解決方案的世界領(lǐng)導者,為世界上大多數(shù)成功的電子、半導體和系統(tǒng)公司提供產(chǎn)品、咨詢服務(wù)和屢獲殊榮的技術(shù)支持。公司總部位于 8005 S.W.Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777。網(wǎng)站:http://www.mentor.com。

            (Mentor Graphics, Mentor,Calibre 和 Xpedition 是注冊商標,AFS, Calibre xACT, Calibre PERC, Calibre RVE 和 Nitro-SoC 是 Mentor Graphics 公司的注冊商標。所有其他公司或產(chǎn)品名稱是其各自所有者的注冊商標或商標。)



          關(guān)鍵詞: Mentor 7nm

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