引領技術開發(fā)的少數芯片制造商認定，極紫外光(EUV)微影技術將在明年使得半導體元件的電晶體密度更進一步向物理極限推進，但才剛失去全球半導體產業(yè)龍頭寶座的英特爾(Intel)，似乎放棄了繼續(xù)努力在采用EUV的腳步上領先;該公司在1990年代末期曾是第一批開始發(fā)展EUV的IC廠商。

　　曾是電子工程師的市場研究機構Bernstein分析師Mark Li表示，英特爾不會在短時間內導入EUV，該公司仍在克服量產10納米制程的困難，因此其7納米制程還得上好幾年，何時會用上EUV更是個大問題。

　　在此同時，三星(Samsung)與臺積電(TSMC)正在小心翼翼推進EUV技術;這兩家公司都在開發(fā)預計2019年導入量產的EUV技術，遙遙領先其他半導體業(yè)者。而英特爾看來已經成為落后兩家同業(yè)有一段距離的第三名;有另一家市場研究機構Susquehanna的分析師Mehdi Hosseini就表示：“英特爾已然失去了制造技術領導地位?！?/p>

　　晶圓代工業(yè)者Globalfoundries去年曾表示將于2019年將EUV工具導入生產流程。Bernstein的Li指出，三星將比臺積電稍后推出7納米制程，但會率先采用EUV;臺積電則會在7納米的增強版本7nm+才會在少數幾層光罩采用EUV，而擁有可選擇采用EUV與不采用EUV版本制程的彈性，會成為臺積電的優(yōu)勢。

　　Hosseini則指出，三星一直規(guī)劃在7納米節(jié)點導入最少8~10層EUV，而臺積電則是要在7nm+制程才導入少數幾層EUV。英特爾或許是想等到EUV技術更成熟──該公司去年接受EE Times采訪時表示，將盡快在EUV技術準備就緒、達到成本效益時導入量產;Bernstein的預測是該時間點恐怕要到2021年底。

　　Susquehanna的Hosseini補充指出：“現在看來，三星的積極計劃出現反效果，因為潛在客戶不太滿意該公司的7納米制程配方。”Susquehanna曾預測Globalfoundries在7納米節(jié)點恐怕很難獲得客戶青睞，而隨后Globalfoundries果然宣布將停止7納米制程研發(fā)，將裁員5%并將ASIC團隊獨立為全資子公司，以便尋找其他擁有7納米技術的晶圓代工伙伴。

　　但Bernstein的Li表示，芯片產業(yè)對接受EUV微影技術的謹慎態(tài)度，不會對臺積電與蘋果(Apple)之間的生意產生影響：“雖然Apple在明年應該不會采用EUV，不過臺積電應該還是會保有代工Apple處理器的獨家生意。我們不認為這會對臺積電的EUV規(guī)劃有負面影響?！?/p>

　　他指出，臺積電會在2019下半年導入EUV量產，而包括手機、GPU以及加密貨幣挖礦業(yè)者，都對7nm+制程有興趣。

　　Susquehanna的Hosseini則表示，現在臺積電的7納米技術領先其他競爭對手，而這也是該公司能繼續(xù)取得Apple與其他大客戶更多生意的主要原因之一：“臺積電顯然會因為較佳的7納米制程技術性能、較低的功耗以及更高密度，贏得大多數先進制程設計的訂單?！?/p>

　　Hosseini接受EE Times訪問時指出：“臺積電的7納米制程在第四季估計將貢獻該公司營收的20%以上;該制程有超過50款產品投片，包括應用處理器(AP)、GPU、伺服器CPU、網路處理器與FPGA等不同應用;”技術的領先應該有助于臺積電在未來多元化其客戶基礎。

　　市場研究機構Arete分析師Brett Simpson表示：“隨著新成長動力逐漸發(fā)酵，臺積電將越來越從非智慧型手機市場獲益，包括5G基地臺、云端運算、自動駕駛車輛以及人工智慧(AI)等，雖然都剛崛起，但長期看來都是重要的、會需要先進制程之高性能運算商機?！?/p>