國內最大的晶圓代工廠中芯國際昨晚發(fā)布了2019年報,營收31.16億美元,公司擁有人應占利潤為2.347億美元,同比增長75%。

中芯國際還提到14nm工藝在去年底量產(chǎn),并貢獻了1%的營收。先進工藝正是中芯國際今年發(fā)展的重點,目前公司已經(jīng)開發(fā)了14/12nm多種特色工藝平臺。

量產(chǎn)的14nm工藝已經(jīng)可以滿足國內95%的芯片生產(chǎn),根據(jù)之前的消息,中芯國際的14nm產(chǎn)能年底將達到15K晶圓/月,之后就不會大幅增長了,重點會轉向下一代工藝——N+1及N+2代FinFET工藝。

之前中芯國際聯(lián)席CEO梁孟松博士首次公開了中芯國際N+1、N+2代工藝的情況,透露N+1工藝相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、邏輯面積縮小63%,SoC面積縮小55%,之后的N+2工藝性能和成本都更高一些。

外界認為中芯國際的N+1代工藝相當于臺積電的7nm工藝,不過中芯國際隨后澄清說,N+1是中芯國際的內部代號,并不等于7nm。

根據(jù)這個信息,N+1工藝跟業(yè)界公認的7nm工藝主要差距是性能,20%的性能增幅不如業(yè)界的35%性能提升,但其他指標差別不大。

在最新的年報會議上,中芯國際表示N+1工藝的研發(fā)進程穩(wěn)定,已進入客戶導入及產(chǎn)品認證階段。之前該公司表示去年底試產(chǎn)了N+1工藝,今年底會有限量產(chǎn)N+1工藝。

總之,即便中芯國際的N+1工藝在性能上還有一定差距,但是國產(chǎn)的7nm級工藝今年底就會問世了,這依然是一件大事。