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          聚焦“寬禁帶”半導(dǎo)體——SiC與GaN的興起與未來

          —— 聚焦“寬禁帶”半導(dǎo)體 —— SiC與GaN的興起與未來
          作者:陳玲麗 時間:2020-06-05 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          硅(Si)作為集成電路最基礎(chǔ)的材料,構(gòu)筑了整個信息產(chǎn)業(yè)的最底層支撐。然而隨著硅與化合物材料(GaAs、GaP、InP等)在光電子、電力電子和射頻微波等領(lǐng)域器件性能的提升面臨瓶頸,不足以全面支撐新一代信息技術(shù)的可持續(xù)發(fā)展,難以應(yīng)對能源與環(huán)境面臨的嚴峻挑戰(zhàn),業(yè)界迫切需要新一代材料技術(shù)的發(fā)展與支撐。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202006/413906.htm

          以其恰好彌補硅的不足而逐步受到半導(dǎo)體行業(yè)青睞,成為繼硅之后最有前景的半導(dǎo)體材料。隨著5G、汽車等新市場出現(xiàn),/不可替代的優(yōu)勢使得相關(guān)產(chǎn)品的研發(fā)與應(yīng)用加速;隨著制備技術(shù)的進步,器件與模塊在成本上已經(jīng)可以納入備選方案內(nèi),需求拉動疊加成本降低, /的時代即將迎來。

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          半導(dǎo)體禁帶寬度的意義

          對于包括半導(dǎo)體在內(nèi)的晶體,其中的電子既不同于真空中的自由電子,也不同于孤立原子中的電子。真空中的自由電子具有連續(xù)的能量狀態(tài),即可取任何大小的能量;而原子中的電子是處于所謂分離的能級狀態(tài)。晶體中的電子是處于所謂能帶狀態(tài),能帶是由許多能級組成的,能帶與能帶之間隔離著禁帶,電子就分布在能帶中的能級上,禁帶是不存在公有化運動狀態(tài)的能量范圍。

          半導(dǎo)體最高能量的、也是最重要的能帶就是價帶和導(dǎo)帶。導(dǎo)帶底與價帶頂之間的能量差即稱為禁帶寬度(或者稱為帶隙、能隙)。因此,禁帶寬度的大小實際上是反映了價電子被束縛強弱程度的一個物理量,也就是產(chǎn)生本征激發(fā)所需要的最小能量。

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          半導(dǎo)體禁帶寬度還與溫度等有關(guān):半導(dǎo)體禁帶寬度隨溫度能夠發(fā)生變化,這是半導(dǎo)體器件及其電路的一個弱點(但在某些應(yīng)用中這卻是一個優(yōu)點)。半導(dǎo)體的禁帶寬度具有負的溫度系數(shù),所以當溫度升高時,晶體的原子間距增大,能帶寬度雖然變窄,但禁帶寬度卻是減小的 —— 負的溫度系數(shù)。

          禁帶寬度是半導(dǎo)體的一個重要特征參量,其大小主要決定于半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu),即與晶體結(jié)構(gòu)和原子的結(jié)合性質(zhì)等有關(guān)。根據(jù)半導(dǎo)體材料的禁帶寬度的不同,可分為半導(dǎo)體材料和窄禁帶半導(dǎo)體材料:

          · 若禁帶寬度Eg< 2.3eV(電子伏特),則稱為窄禁帶半導(dǎo)體,如鍺(Ge)、硅(Si)、砷化鎵(GaAs)以及磷化銦(InP);

          · 若禁帶寬度Eg>2.3eV則稱為半導(dǎo)體,如碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、H碳化硅(HSiC)、H碳化硅(HSiC)、氮化鋁(AlN)以及氮化鎵鋁(ALGaN)等。

          禁帶越寬,意味著電子躍遷到導(dǎo)帶所需的能量越大,也意味著材料能承受的溫度和電壓越高,越不容易成為導(dǎo)體;禁帶越窄,意味著電子躍遷到導(dǎo)帶所需的能量越小,也意味著材料能承受的溫度和電壓越低,越容易成為導(dǎo)體。

          寬禁帶半導(dǎo)體材料具有禁帶寬度大、擊穿電場強度高、飽和電子漂移速度高、熱導(dǎo)率大、介電常數(shù)小、抗輻射能力強以及良好的化學(xué)穩(wěn)定性等特點,非常適合于制作抗輻射、高頻、大功率和高密度集成的電子器件。

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          SiC和GaN

          GaN晶體管在20世紀90年代首次出現(xiàn),2010年宜普電源轉(zhuǎn)換公司(EPC)推出第一個器件后,宣布了GaN開始了的正式商業(yè)化應(yīng)用之路。SiC二極管自2001年推出,到現(xiàn)在已經(jīng)進入了所有高性能電源、可再生能源和電機驅(qū)動應(yīng)用領(lǐng)域。

          GaN和SiC等寬禁帶半導(dǎo)體具有高熱導(dǎo)率、高擊穿場強、高飽和電子漂移速率和高鍵合能等優(yōu)點,可以滿足現(xiàn)代電子技術(shù)對高溫、高功率、高壓、高頻以及抗輻射等惡劣條件的新要求。從工程角度來看,SiC和GaN具有的優(yōu)勢主要有下面4個:

          · 寬禁帶半導(dǎo)體具有卓越的dV/dt切換性能,這意味著開關(guān)損耗非常小。這使得高開關(guān)頻率(SiC為50 kHz至500 kHz,GaN為1 MHz以上)成為可能,結(jié)果有助于減小磁體體積,同時提升功率密度。

          · 電感值、尺寸和重量能減少70%以上,同時還能減少電容數(shù)量,使最終轉(zhuǎn)換器的尺寸和重量僅相當于傳統(tǒng)轉(zhuǎn)換器的五分之一。

          · 無源元件和機械部件(包括散熱器)的用量可節(jié)省約40%,增值部分則體現(xiàn)在控制電子IC上。

          · 寬禁帶半導(dǎo)體對高結(jié)溫具有超高的耐受性,這種耐受性有助于提升功率密度,減少散熱問題。

          與GaN相比,SiC熱導(dǎo)率是GaN的三倍以上,在高溫應(yīng)用領(lǐng)域更有優(yōu)勢;同時SiC單晶的制備技術(shù)相對更成熟,所以SiC功率器件的種類遠多于GaN。但是GaN并不完全處于劣勢,甚至被稱為SiC器件獲得成長的最大抑制因素。隨著GaN制造工藝在不斷進步,在GaN-on-Si外延片上制造的GaN器件具有相當?shù)偷某杀?,比在SiC晶片上制造任何產(chǎn)品都更為容易。由于這些原因,GaN晶體管可能會成為2020年代后期逆變器中的首選,優(yōu)于較昂貴的SiC MOSFET。數(shù)據(jù)顯示,2023年全球GaN器件市場規(guī)模將達到224.7億美元。

          在應(yīng)用上,SiC和GaN的優(yōu)勢是互補的。GaN擁有更高的熱導(dǎo)率和更成熟的技術(shù),而SiC直接躍遷、高電子遷移率和飽和電子速率、成本更低的優(yōu)點則使其擁有更快的研發(fā)速度。兩者的不同優(yōu)勢決定了應(yīng)用范圍上的差異:GaN的市場應(yīng)用偏向高頻小電力領(lǐng)域,集中在1000V以下;而SiC適用于1200V以上的高溫大電力領(lǐng)域。兩者的應(yīng)用領(lǐng)域覆蓋了新能源汽車、光伏、機車牽引、智能電網(wǎng)、節(jié)能家電、通信射頻等大多數(shù)具有廣闊發(fā)展前景的新興應(yīng)用市場。


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          · SiC最大的應(yīng)用市場來自汽車。與傳統(tǒng)解決方案相比,基于SiC的解決方案使系統(tǒng)效率更高、重量更輕及結(jié)構(gòu)更加緊湊。目前SiC器件在EV/HEV上應(yīng)用主要是功率控制單元(PCU)、逆變器、DC-DC轉(zhuǎn)換器、車載充電器等方面。全球SiC產(chǎn)業(yè)格局呈現(xiàn)美國、歐洲、日本三足鼎立態(tài)勢。其中美國全球獨大,占全球SiC產(chǎn)量的70%~80%;歐洲擁有完整的SiC襯底、外延、器件以及應(yīng)用產(chǎn)業(yè)鏈;日本是設(shè)備和模塊開發(fā)方面的領(lǐng)先者。中國企業(yè)在襯底、外延和器件方面均有所布局,但是體量均較小。

          · GaN是5G應(yīng)用的關(guān)鍵材料。相較于已經(jīng)發(fā)展十多年的SiC,GaN功率器件是后進者,它擁有類似SiC性能優(yōu)勢的寬禁帶材料,但擁有更大的成本控制潛力,在射頻微波領(lǐng)域和電力電子領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用。GaN是射頻器件的合適材料,特別是高頻應(yīng)用,這在5G時代非常重要。電力電子方面,GaN功率器件因其高頻高效率的特點而在消費電子充電器、新能源充電樁、數(shù)據(jù)中心等領(lǐng)域有著較大的應(yīng)用潛力。目前GaN產(chǎn)業(yè)仍舊以海外企業(yè)為主,國內(nèi)企業(yè)在襯底外延和設(shè)計制造領(lǐng)域都逐漸開始涉足。

          基于SiC、GaN功率器件的前景可期,已吸引眾多公司進入這一市場,英飛凌、恩智浦、安森美、ST、德州儀器、羅姆、TDK、松下、東芝、等實力選手也紛紛加入戰(zhàn)局。在國內(nèi)電源管理IC廠商中,也有包括矽力杰、晶豐、士蘭微、芯朋微、東科、比亞迪等戰(zhàn)將,但顯然這一市場仍以日美歐廠商為主角。

          我國早已經(jīng)在大力扶持第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。2016年國務(wù)院就出臺了《“十三五”國家科技創(chuàng)新規(guī)劃》,明確提出以第三代半導(dǎo)體材料等為核心,搶占先進電子材料技術(shù)的制高點。

          SiC和GaN的應(yīng)?領(lǐng)域 

          寬禁帶半導(dǎo)體材料作為一類新型材料,具有獨特的電、光、聲等特性,其制備的器件具有優(yōu)異的性能,在眾多方面具有廣闊的應(yīng)用前景。它能夠提高功率器件工作溫度極限,使其在更惡劣的環(huán)境下工作;能夠提高器件的功率和效率,提高裝備性能;能夠拓寬發(fā)光光譜,實現(xiàn)全彩顯示。隨著寬禁帶技術(shù)的進步,材料工藝與器件工藝的逐步成熟,其重要性將逐漸顯現(xiàn),在高端領(lǐng)域?qū)⒅鸩饺〈谝淮⒌诙雽?dǎo)體材料,成為電子信息產(chǎn)業(yè)的主宰。

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          · 半導(dǎo)體照明:LED襯底類別包括藍寶石、SiC、Si以及GaN。藍光LED在用襯底材料來劃分技術(shù)路線。SiC襯底有效地解決了襯底材料與GaN的晶格匹配度問題,減少了缺陷和位錯,更高的電光轉(zhuǎn)換效率從根本上帶來更多的出光和更少的散熱。GaN具有禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導(dǎo)率大、電子飽和漂移速度高、抗輻射能力強和良好的化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)越特性,是迄今理論上電光、光電轉(zhuǎn)換效率最高的材料體系。時至今日,GaN襯底相對于藍寶石、SiC等襯底的性能優(yōu)勢顯而易見,最大難題在于價格過高。

          · 功率器件:2015年,SiC功率半導(dǎo)體市場(包括二極管和晶體管)規(guī)模約為2億美元,到2021年,其市場規(guī)模預(yù)計將超過5.5億美元,這期間的復(fù)合年均增長率預(yù)計將達19%。毫無懸念,消耗大量二極管的功率因素校正(PFC)電源市場,仍將是SiC功率半導(dǎo)體最主要的應(yīng)用。

          · 微波器件:GaN高頻大功率微波器件已開始用于軍用雷達、智能武器和通信系統(tǒng)等方面。在未來,GaN微波器件有望用于4G-5G移動通訊基站等民用領(lǐng)域。GaN在國防領(lǐng)域的應(yīng)用主要包括IED干擾器、軍事通訊、雷達、電子對抗等。GaN將在越來越多的國防產(chǎn)品中得到應(yīng)用,充分體現(xiàn)其在提高功率、縮小體積和簡化設(shè)計方面的巨大優(yōu)勢。

          · 激光器和探測器:在激光器和探測器應(yīng)用領(lǐng)域,GaN激光器已經(jīng)成功用于藍光DVD,藍光和綠色的激光將來巨大的市場空間在微型投影、激光3D投影等投影顯示領(lǐng)域,藍色激光器和綠光激光器產(chǎn)值約為2億美元,如果技術(shù)瓶頸得到突破,潛在產(chǎn)值將達到500億美元。2014年諾貝爾獎獲得者中村修二認為下一代照明技術(shù)應(yīng)該是基于GaN激光器的“激光照明”,有望將照明和顯示融合發(fā)展。目前,只有國外的日本日亞公司(Nichia)、和德國的歐司朗(Osram)等公司能夠提供商品化的GaN基激光器。由于GaN優(yōu)異的光電特性和耐輻射性能,還可以用作高能射線探測器。GaN基紫外探測器可用于導(dǎo)彈預(yù)警、衛(wèi)星秘密通信、各種環(huán)境監(jiān)測、化學(xué)生物探測等領(lǐng)域,例如核輻射探測器、X射線成像儀等,但尚未實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。

          寬禁帶半導(dǎo)體面臨的挑戰(zhàn)

          雖然GaN和SiC等寬禁帶半導(dǎo)體正在快速增長中,但其實它們的發(fā)展還是面臨著許多挑戰(zhàn)的。真正的挑戰(zhàn)是為市場提供強固和高性能的器件,實現(xiàn)與硅電源半導(dǎo)體相當或優(yōu)于硅電源半導(dǎo)體的穩(wěn)定和可靠的運行。

          首先是所有新技術(shù)在推廣初期都會遇到的成本問題,據(jù)Yole統(tǒng)計,目前SiC MOSFET器件的每安培成本比同類IGBT高出五倍以上。這主要是由于下游應(yīng)用目前大多處在研發(fā)階段,還沒有形成批量產(chǎn)業(yè)化,尤其是在國內(nèi)。從整個國際半導(dǎo)體市場來看,我們判斷寬禁帶半導(dǎo)體基本上處在爆發(fā)式增長的前期。

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          寬禁帶半導(dǎo)體目前遇到的最大挑戰(zhàn)在于為了充分利用SiC器件的功率和性能,必須對封裝進行顯著改進。因為SiC器件的尺寸要小得多,因此,必須優(yōu)化分立封裝和模塊的熱性能,為此需要改進粘晶材料(die attach materials)和方法,這需要直接散熱和/或雙面散熱的方案。提高開關(guān)速度需要盡可能降低寄生電感,高電流密度需要覆晶(flip-chip)和非引線鍵合(non-wire bonded)方案。

          我國寬禁帶功率半導(dǎo)體創(chuàng)新發(fā)展的時機已經(jīng)逐步成熟,處于重要窗口期。但是,目前行業(yè)面臨的困難仍然很多,一個產(chǎn)業(yè)的發(fā)展與兩個方面有關(guān):一個是技術(shù)層面,另一個重要問題就是產(chǎn)業(yè)的生態(tài)環(huán)境。

          寬禁帶功率半導(dǎo)體面臨的技術(shù)難題很多。如襯底材料的完整性、外延層及歐姆接觸的質(zhì)量、工藝穩(wěn)定性、器件可靠性以及成本控制等,寬禁帶功率半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)化的難度比外界想象的要大很多。

          產(chǎn)業(yè)發(fā)展的生態(tài)環(huán)境的建設(shè)并不完善。5G移動通信、電動汽車等是寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)最具有爆發(fā)性增長潛力的應(yīng)用領(lǐng)域,國內(nèi)在產(chǎn)業(yè)生態(tài)的成熟度上與國外的差距還比較明顯,落后程度更甚于技術(shù)層面的落后程度。產(chǎn)業(yè)鏈上下游協(xié)同不足,尚未解決材料“能用-可用-好用”發(fā)展過程中的問題和障礙。

          寬禁帶功率半導(dǎo)體需要產(chǎn)業(yè)鏈、創(chuàng)新鏈的協(xié)同發(fā)展。寬禁帶功率半導(dǎo)體涉及多學(xué)科、跨領(lǐng)域的技術(shù)和應(yīng)用,需要聯(lián)合多個領(lǐng)域優(yōu)勢資源,開展多學(xué)科、跨領(lǐng)域的集成創(chuàng)新,但研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化需要昂貴的生長和工藝設(shè)備、高等級的潔凈環(huán)境和先進的測試分析平臺。目前國內(nèi)從事寬禁帶半導(dǎo)體研發(fā)的研究機構(gòu)、企業(yè)單體規(guī)模小,資金投入有限,研發(fā)創(chuàng)新速度慢,成果轉(zhuǎn)化困難。

          第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,可以被廣泛應(yīng)用在各個領(lǐng)域,且具備眾多的優(yōu)良性能,可突破第一、二代半導(dǎo)體材料的發(fā)展瓶頸,故被市場看好的同時,隨著技術(shù)的發(fā)展有望全面取代第一、二代半導(dǎo)體材料。目前,美國、日本、歐洲在第三代半導(dǎo)體SiC、GaN、AlN等技術(shù)上擁有絕對的話語權(quán)。相比美、日,我國在第三半導(dǎo)體材料上的起步較晚,水平較低,但由于第三代半導(dǎo)體還有很大的發(fā)展空間,各國都處于發(fā)力階段,因此被視作一次彎道超車的機會。路漫漫其修遠兮,吾將上下而求索。或許是概括這一行業(yè)的最好判語了。



          關(guān)鍵詞: 寬禁帶 半導(dǎo)體 SiC GaN

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