PFC電路:柵極電阻的更改
在實際的電路設計工作中,降噪是的一項重大課題,通常,可以通過提高開關器件的柵極電阻來抑制噪聲,但其代價是效率降低(損耗增加),因此很好地權衡柵極電阻值的設置是非常重要的。在本文中,我們來探討當將開關器件的損耗抑制在規(guī)定值以下時,最大柵極電阻RG的情況。另外,由于噪聲需要實際裝機評估,所以在這里省略噪聲相關的探討。
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?增加開關元件的柵極電阻會抑制噪聲,但與之存在權衡關系的效率會降低,因此很好地權衡柵極電阻值的設置是非常重要的。
?將開關器件的損耗抑制在規(guī)定值以下時,其最大柵極電阻RG可以通過仿真來確認。
在實際的電路設計工作中,降噪是的一項重大課題,通常,可以通過提高開關器件的柵極電阻來抑制噪聲,但其代價是效率降低(損耗增加),因此很好地權衡柵極電阻值的設置是非常重要的。在本文中,我們來探討當將開關器件的損耗抑制在規(guī)定值以下時,最大柵極電阻RG的情況。另外,由于噪聲需要實際裝機評估,所以在這里省略噪聲相關的探討。
電路示例
該電路以Power Device Solution Circuit/AC-DC PFC的一覽表中的仿真電路“A-5. PFC CCM 2-PhaseVin=200V Iin=5A”為例(參考圖1)。關于更詳細的電路圖,還可以通過這里查看。
在本示例中,我們將通過仿真來探討將圖1所示的低邊開關器件SiC MOSFET SCT2450KE的損耗抑制在5W以下時,作為噪聲對策可以將柵極電阻RG提高到多高。
圖1:PFC仿真電路“A-5. PFC CCM 2-Phase Vin=200V Iin=5A”
柵極電阻與損耗的關系
如“PFC電路:探討適當?shù)臇艠O驅(qū)動電壓”中圖10所示,在導通狀態(tài)下,傳統(tǒng)Si(硅)MOSFET的導通電阻Ron相對于VGS幾乎恒定。相比之下,SiC MOSFET的Ron相對于VGS變化很大(如圖11所示),因此VGS值的設置比Si MOSFET更重要。也就是說,如果SiC MOSFET的VGS值過低,就會導致導通損耗增加,效率變差。反之,如果為追求高效率而將VGS設置得過高,則結(jié)果可能會超出額定值,因此設置適當?shù)腣GS值是非常重要的。
SiC MOSFET導通時的損耗、漏極電流ID、漏-源電壓VDS和柵極電壓VGS之間的關系見右側(cè)圖2。發(fā)生該開關損耗的期間t1和t2可以用下列左側(cè)公式來表示:
圖2:導通損耗與ID、VDS、VGS的關系
通過這兩個公式可以看出,開關損耗發(fā)生的時間t1、t2與RG成正比。
另外,此時ID和VDS的變化幾乎呈線性,所以可以認為損耗也與RG成正比。
柵極電阻調(diào)整
圖3表示使RG變化時SiC MOSFET的損耗仿真結(jié)果。為避免過于復雜,我們使Source用的電阻值和Sink用的電阻值以相同的倍率變化。
圖3:改變RG值時的SiC MOSFET損耗仿真結(jié)果
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