2nm:半導(dǎo)體企業(yè)的一場創(chuàng)新競賽
近日,格芯以非法使用知識產(chǎn)權(quán)和商業(yè)秘密為由起訴了美國 IBM。而日本 Rapidus 公司計(jì)劃利用 IBM 提供的技術(shù),在日本國內(nèi)再次量產(chǎn)先進(jìn)產(chǎn)品,而這里的先進(jìn)產(chǎn)品指的就是 2 納米芯片。
本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202304/446127.htm雖然 3 納米還未得到普及,但是產(chǎn)業(yè)圍繞 2 納米的討論卻一直熱烈。為了發(fā)展 2 納米制程,不只晶圓廠摩拳擦掌,芯片制造設(shè)備公司也已經(jīng)將 2 納米的設(shè)備提上日程。據(jù) TechNews 的報(bào)道,光刻機(jī)大廠 ASML 已向臺灣地區(qū)相關(guān)部門申請研發(fā)補(bǔ)貼,以資助 2 納米晶圓光學(xué)測量設(shè)備的開發(fā)和生產(chǎn)。
官司打起來了,ASML 也動起來了,2 納米似乎真的離我們不遠(yuǎn)了。
2 納米的主要競爭者
以目前臺積電在晶圓制造領(lǐng)域的地位來看,行業(yè)對臺積電的 2 納米自然是最期待的。與此同時(shí),2 納米也是行業(yè)所期待的代工市場轉(zhuǎn)折點(diǎn)。ICVIEWS 盤點(diǎn)了目前公布 2 納米計(jì)劃的市場參與者的規(guī)劃,發(fā)現(xiàn)各家 2 納米的問世時(shí)間基本都規(guī)劃在了 2025 年,同時(shí)結(jié)構(gòu)方面都選擇了 GAA。如果各公司的研發(fā)可以順利進(jìn)行,在不久之后,或許可以看到先進(jìn)制程市場的百花齊放。
臺積電 2 納米 2025 年如期上線
2022 年技術(shù)研討會上,臺積電正式公布了其 N2(2 納米級)制造技術(shù),當(dāng)時(shí)臺積電表示該技術(shù)計(jì)劃于 2025 年某個時(shí)間投入生產(chǎn),并將成為臺積電第一個使用其基于納米片的柵極全方位場效應(yīng)的節(jié)點(diǎn)晶體管(GAAFET)。新節(jié)點(diǎn)將使芯片設(shè)計(jì)人員能夠顯著降低其產(chǎn)品的功耗,根據(jù)臺積電公布的 N2 技術(shù)指標(biāo),可以看到,相較于其 N3E(3 納米的低成本版)工藝,在相同功耗下,臺積電 2 納米工藝的性能將提升 10%~15%;而在相同性能下,臺積電 2 納米工藝的功耗將降低 23%~30%;晶體管密度提升 10%。
在近日召開的 Q1 季度財(cái)報(bào)會上,臺積電表示客戶對 2 納米工藝熱情高漲,并且重申 2 納米將按計(jì)劃在 2025 年量產(chǎn),同時(shí)臺積電也表示原本計(jì)劃建立成熟制程的高雄廠未來將改成先進(jìn)制程。從目前臺積電透露的信息來看,臺積電對于 2 納米能按時(shí)交付頗有自信。
三星向臺積電看齊
已經(jīng)量產(chǎn) 3 納米的三星與臺積電對 2 納米上線的規(guī)劃時(shí)間一樣,都是目標(biāo)是到 2025 年大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)的 2 納米技術(shù)芯片,同時(shí)三星也宣布計(jì)劃到 2027 年大規(guī)模生產(chǎn) 1.4 納米 芯片。不同于臺積電在 2 納米開始選擇 GAA,三星從 3 納米制程就開始使用 GAA 結(jié)構(gòu)。所以相對于臺積電,三星似乎在新結(jié)構(gòu)方面會更有經(jīng)驗(yàn),這也成為三星在 2 納米制程中的節(jié)點(diǎn)的優(yōu)勢之一。
英特爾 2 納米 計(jì)劃 2024 年問世
自 2021 年初帕特·基辛格出任 CEO,英特爾提出了包括 Intel 7、4、3、20A、18A 在內(nèi)的五大先進(jìn)制程路線圖。2022 年,有消息稱基于 Intel 20A 工藝的 Arrow Lake 已經(jīng)有內(nèi)測芯片流片,2023 年 3 月臺灣媒體表示,英特爾全球高級副總裁兼中國區(qū)董事長王銳透露,Intel20A(業(yè)界的 2 納米制程)和 Intel 18A(相當(dāng)于 1.8 納米制程)已經(jīng)流片。
這一進(jìn)度符合英特爾在規(guī)劃中提出的 intel20A 2024 年上半年投產(chǎn),那么或許也可以期待 Intel18A 2024 年下半年投產(chǎn)。目前來看,英特爾的 2 納米有望最早問世。
2 納米制程的黑馬 Rapidus
除了代工的三大巨頭,一家日本公司也聲勢浩大地加入了 2 納米的競爭。
2022 年 8 月,8 家日本頂級企業(yè):索尼、豐田汽車、日本電信電話、日本電氣、日本電裝、軟銀、鎧俠和三菱日聯(lián)銀行分別出資 3 億-10 億日元不等,合資打造了這家定位高端芯片公司。同年 12 月,IBM 宣布將與 Rapidus 合作計(jì)劃于 2025 年在日本啟動 2 納米制程制造基地。
IBM 的加入讓 Rapidus 的計(jì)劃看起來更加有希望,IBM 雖然已經(jīng)不再是 IDM 公司,但仍保留了一家芯片制造研發(fā)中心。而在 2021 年,IBM 推出全球首款 2 納米制程的芯片。同樣 IBM 的 2 納米也使用了 GAA 結(jié)構(gòu)。所以,可以說 Rapidus 雖然起步晚了一些,但在 2 納米制程方面也有了底氣。
2 納米的糧草:都在路上
兵馬未動,糧草先行。2 納米芯片的制造也離不開設(shè)備、材料等其他環(huán)節(jié)的研究。
ASML 準(zhǔn)備好了嗎?
光刻機(jī)作為芯片制造中最關(guān)鍵的設(shè)備,ASML 成為代工廠們競相追逐的對象。畢竟當(dāng)下全球范圍內(nèi),僅有 ASML 能供應(yīng) 7 納米以下的 EUV。
在 2022 SPIE 高級光刻會議上,ASML 介紹了 EUV 的最新進(jìn)展。根據(jù) ASML 最新消息,新款 EUV 光刻機(jī)正在研發(fā)中,NA 將從 0.33 增加到 0.55(NA 是光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑,表示光線的入射角度),2 納米工藝的芯片都將依賴其實(shí)現(xiàn)。與 EXE:5000 相比,EXE:5200 預(yù)計(jì)將帶來幾項(xiàng)改進(jìn),包括更高的生產(chǎn)率等等。
2022 年 1 月 19 日,英特爾向 ASML 訂購了最新款高 NA EXE:5200 光刻機(jī)。英特爾稱,公司將成為 ASML 第一臺 EXE:5200 的買家。隨后,臺積電、三星也有所動作。在 2022 年 6 月 17 日舉行的技術(shù)研討會上,臺積電研發(fā)高級副總裁米玉杰透露,臺積電將在 2024 年引入 ASML 的最新機(jī)器。三星電子的實(shí)際負(fù)責(zé)人李在镕也已經(jīng)到訪荷蘭光刻機(jī)龍頭 ASML。
二維材料,成 2 納米的新寵
對于 2 納米需要的新型材料,二維材料是目前半導(dǎo)體行業(yè)所關(guān)注的重點(diǎn)。
在 2021 年年臺積電就曾透露將在 2 納米節(jié)點(diǎn)采用新的二維材料。當(dāng)時(shí),臺積電表示正在研究的新材料包括二硫化鎢(WuS2)和碳納米管等二維材料。這些二維材料能夠更有效地移動電子,并讓芯片實(shí)現(xiàn)更節(jié)能的計(jì)算。
和晶體管結(jié)構(gòu)的變化類似,二維材料的應(yīng)用也是為了解決晶體管微縮后帶來的量子效應(yīng),解決漏電發(fā)熱、提升芯片能耗,并減小芯片面積。相比于當(dāng)前的硅材料,二維材料厚度可小于 1 納米,相當(dāng)于一至三層原子,逼近固態(tài)半導(dǎo)體材料厚度的極限。二維半導(dǎo)體材料天生更適用于 2 納米及之后的先進(jìn)制程,二硫化鎢和碳納米管是目前最具代表性的二維材料。
近日,臺積電和麻省理工(MIT)共同提出了一項(xiàng)有關(guān)鉍的研究。據(jù)介紹,半金屬鉍(Bismuth,化學(xué)符號 Bi)則有望成為二維材料(2D materials)的接觸電極。
晶圓的背面:背面供電技術(shù)
隨著摩爾定律逼近極限,晶圓制造的研究正在尋找新的角度。
IMEC 在 2022 年 IEEE VLSI 技術(shù)和電路研討會上,展示了通過納米硅通孔(nTSV)在埋地電源軌(BPR)上的進(jìn)行背面供電。IMEC 稱,這是未來基于 2 納米制程的 2.5D 和 3D 芯片的關(guān)鍵技術(shù),該方案將在系統(tǒng)層面提高芯片整體供電性能,避免受到功率密度提升和電源電壓下降的影響。目前三星、臺積電、英特爾都透露將在 2 納米制程中使用背面供電技術(shù)。
此外,隨著芯片制程演進(jìn)和晶體管結(jié)構(gòu)的改變,新的互連技術(shù)被業(yè)內(nèi)視作 2 納米制程中降低整體電阻和 RC 延遲的關(guān)鍵。臺積電和三星電子也十分看重互連技術(shù)對先進(jìn)制程的影響,均在各自的先進(jìn)封裝技術(shù)中有所布局。臺積電的芯片互連技術(shù)路線圖更是拓展到了 2035 年,要在 2035 年前實(shí)現(xiàn) 1μm 以內(nèi)的 SoIC 互連。
3 納米市場怎么樣?
業(yè)界都在關(guān)心 2 納米,不過眼前 3 納米的市場怎么樣呢?
有觀點(diǎn)認(rèn)為三星和臺積電都在 3 納米上花了不少心思,但從過去的新聞和廠商的公告可以看到,似乎大家都對第一代的 3 納米工藝不感興趣。例如市場上一度傳言,蘋果會成為臺積電第一代 3 納米工藝的唯一客戶。不過,這家美國巨頭迄今都沒有公布其 3 納米產(chǎn)品。
本月美國芯片公司 Marvell 表示,公司基于臺積電 3 納米工藝打造的數(shù)據(jù)中心芯片正式發(fā)布。這也是臺積電的首款已公布的 3 納米芯片,據(jù) Marvell 介紹,公司在該節(jié)點(diǎn)中的業(yè)界首創(chuàng)硅構(gòu)建模塊包括 112G XSR SerDes(串行器/解串行器)、Long Reach SerDes、PCIe Gen 6 / CXL 3.0 SerDes 和 240 Tbps 并行芯片到芯片互連。
臺積電的 3 納米終于迎來了大客戶,但是并不是想象中的蘋果。而對比之下,三星的首個客戶是一家挖礦的 ASIC 芯片公司。但之后尚沒有公開信息表明三星的 3 納米有哪些大客戶下單,如果找不到外部客戶下單,或許三星的客戶只能是自己。
另外一家巨頭英特爾還沒有公布 3 納米量產(chǎn)的官方消息,目前已知英特爾計(jì)劃在 2023 年底推出其 3 納米 等效工藝節(jié)點(diǎn)。這些晶圓專為服務(wù)器級至強(qiáng)芯片設(shè)計(jì)。第 5 代 Xeon Emerald Rapids-SP 將采用 Intel 3 工藝制造。Emerald Rapids 將在 Sapphire Rapids 一年內(nèi)作為軟更新推出。與三星相比,英特爾在服務(wù)器芯片的市場份額,讓英特爾的 3 納米不會「愁賣」。當(dāng)然這也要看到時(shí)候英特爾的產(chǎn)能與良率能否按照預(yù)期規(guī)劃,滿足英特爾服務(wù)器客戶的需求。
寫在最后
自從缺芯潮開始以來,市場對于先進(jìn)制程和成熟制程的重要性就一直進(jìn)行著討論?!赋墒熘瞥痰漠a(chǎn)品產(chǎn)能不足」和「先進(jìn)制程的產(chǎn)品市場需求突然下滑」成為同時(shí)發(fā)生的現(xiàn)狀。盡管如此,科技在不斷地進(jìn)步,隨著新應(yīng)用的出現(xiàn),對 2 納米、1 納米的新制程的需求沒有停止。2 納米會來的,而 2 納米帶來的新世界更值得期待。
評論