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          英特爾制程路線遇阻:高通停止開(kāi)發(fā)Intel 20A芯片

          作者:陳玲麗編譯 時(shí)間:2023-08-10 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          最新調(diào)查顯示,已經(jīng)停止開(kāi)發(fā)基于工藝的。郭明錤發(fā)布最新研究報(bào)告認(rèn)為,關(guān)于的決定可能會(huì)對(duì)的RibbonFET和PowerVia技術(shù)產(chǎn)生負(fù)面影響。這意味著可能無(wú)法在明年的預(yù)期時(shí)間內(nèi)上市,進(jìn)一步使得Intel 18A研發(fā)與量產(chǎn)面臨更高不確定性與風(fēng)險(xiǎn)。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202308/449516.htm

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          處于不利地位

          先進(jìn)進(jìn)入7nm后,一線IC設(shè)計(jì)業(yè)者的高端訂單對(duì)晶圓代工來(lái)說(shuō)更為重要。一線IC設(shè)計(jì)廠商的設(shè)計(jì)能力、訂單規(guī)格(尤其是最高端)、訂單規(guī)模相比一般訂單可以顯著改善代工的技術(shù)實(shí)力,這也是臺(tái)積電迄今為止領(lǐng)先其他競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的關(guān)鍵因素,同時(shí)也是停止開(kāi)發(fā)Intel 20A對(duì)造成的最大負(fù)面影響。

          7nm之后IC設(shè)計(jì)商的開(kāi)發(fā)成本大幅增加,難以與不同代工廠商在同一節(jié)點(diǎn)上合作。以高通3nm開(kāi)發(fā)為例,由于該公司已經(jīng)與臺(tái)積電、三星建立合作,加上裁員以及智能手機(jī)市場(chǎng)仍在下滑,其并沒(méi)有足夠的資源再來(lái)針對(duì)Intel 20A(約等同于3nm)開(kāi)發(fā)芯片。

          雖然英特爾稱(chēng)Intel 7已經(jīng)大規(guī)模量產(chǎn);Intel 4將于今年下半年上場(chǎng),將用于Meter Lake;Intel 3正在按計(jì)劃推進(jìn);Intel 20A以及Intel 18A的測(cè)試芯片已經(jīng)流片。然而高通停止開(kāi)發(fā)基于Intel 20A工藝的芯片將使英特爾處于不利地位,使得臺(tái)積電和三星成為生產(chǎn)高通驍龍8 Gen 4的唯一可行選擇。

          值得注意的是,英特爾在去年公布Arrow Lake的時(shí)候宣布CPU模塊會(huì)使用Intel 20A工藝,但后續(xù)不斷有消息稱(chēng)會(huì)改用臺(tái)積電的N3工藝,目前有消息稱(chēng)英特爾已經(jīng)放棄在Arrow Lake使用20A工藝,它上面的所有芯粒都會(huì)交由臺(tái)積電生產(chǎn)。

          英特爾的路線

          兩年前英特爾CEO帕特·基爾辛格(Pat Gelsinger)雄心勃勃地公布了最新工藝路線圖,力求在四年里邁過(guò)5個(gè)節(jié)點(diǎn),分別是Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A和Intel 18A,同時(shí)圍繞“IDM 2.0”戰(zhàn)略打造世界一流的英特爾代工服務(wù)(IFS)。目標(biāo)是半導(dǎo)體制造工藝可以在2025年趕上臺(tái)積電,讓英特爾重新奪回處理器領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位。

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          按照英特爾的計(jì)劃,將在Intel 20A制程節(jié)點(diǎn)首次引入RibbonFET和PowerVia兩大突破性技術(shù),從而開(kāi)啟埃米時(shí)代。

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          · RibbonFET是對(duì)全環(huán)繞柵極晶體管(Gate All Around)的實(shí)現(xiàn),將成為英特爾自2011年推出FinFET以來(lái)的首個(gè)全新晶體管架構(gòu):該技術(shù)加快了晶體管開(kāi)關(guān)速度,同時(shí)實(shí)現(xiàn)與多鰭結(jié)構(gòu)相同的驅(qū)動(dòng)電流,但占用的空間更小。

          · PowerVia是英特爾獨(dú)有的、業(yè)界首個(gè)背面電能傳輸網(wǎng)絡(luò),通過(guò)消除晶圓正面供電布線需求來(lái)優(yōu)化信號(hào)傳輸:該技術(shù)讓芯片制造更像三明治,首先還是制造晶體管,然后添加互連層,接著翻轉(zhuǎn)晶圓并進(jìn)行打磨,在晶體管底層接上電源線。背面供電一方面讓晶體管供電的路徑變得非常直接,可以減少信號(hào)串?dāng)_,降低功耗,將平臺(tái)電壓降低優(yōu)化30%;另一方面,解決了晶體管尺寸不斷縮小帶來(lái)的互連瓶頸,實(shí)現(xiàn)了6%的頻率增益和超過(guò)90%的標(biāo)準(zhǔn)單元利用率。

          此外,英特爾還開(kāi)發(fā)了全新的散熱技術(shù),并在基于Intel 4的、經(jīng)過(guò)充分驗(yàn)證的測(cè)試芯片上進(jìn)行了反復(fù)調(diào)試,測(cè)試芯片展示了良好的散熱特性,PowerVia能達(dá)到了相當(dāng)高的良率和可靠性指標(biāo)。



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