由于受到美國(guó)政府限制，中國(guó)企業(yè)無(wú)法再?gòu)拿绹?guó)、日本或荷蘭公司獲得先進(jìn)的芯片制造工具，韓國(guó)企業(yè)看到了這樣的機(jī)遇，正在努力進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)。

據(jù)韓國(guó)媒體 TheElec 報(bào)道，韓國(guó)光學(xué)晶圓檢測(cè)設(shè)備制造商 Nextin 正在擴(kuò)大其在中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)的業(yè)務(wù)。據(jù)稱(chēng) Nextin 已與一家未公開(kāi)的中國(guó)客戶(hù)簽署了一項(xiàng)價(jià)值 70 億韓元（合 539 萬(wàn)美元）的協(xié)議，購(gòu)買(mǎi)一臺(tái) Aegis 3 機(jī)器。該模型的檢測(cè)速度比 Aegis 2 快 30%，計(jì)算性能為 1.47TFLOPS。

Nextin 不僅向 SK 海力士中國(guó)供應(yīng)光學(xué)檢測(cè)工具，還向一些中國(guó)芯片制造公司供應(yīng)光學(xué)檢測(cè)工具。目前尚不清楚 Nextin 是否繼續(xù)在向中國(guó)運(yùn)送的產(chǎn)品中使用源自美國(guó)的技術(shù)。

光學(xué)圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備分為明場(chǎng)和暗場(chǎng)兩大類(lèi)別，兩者的主要區(qū)別是：明場(chǎng)設(shè)備是收集晶圓表面垂直反射的光信號(hào)來(lái)分析缺陷，而暗場(chǎng)設(shè)備是收集晶圓表面散射回來(lái)的光信號(hào)來(lái)分析。如果晶圓表面是平整沒(méi)有缺陷的，則明場(chǎng)設(shè)備反射回來(lái)的光是相對(duì)比較完整的入射光，而暗場(chǎng)設(shè)備的入射光則被全反射，其接收到的是散射光信號(hào)。隨著設(shè)備行業(yè)不斷發(fā)展，明場(chǎng)與暗場(chǎng)的定義也在變化，現(xiàn)在明場(chǎng)一般指的照明光路和采集光路在臨近晶圓段共用同一個(gè)顯微物鏡，而暗場(chǎng)指照明光路和采集光路在物理空間上是完全分離的。因?yàn)榇怪狈瓷浜蜕⑸涔庑盘?hào)的差別，明場(chǎng)設(shè)備的檢測(cè)靈敏度比暗場(chǎng)設(shè)備的高，但明場(chǎng)設(shè)備掃描速度也較慢。

Nextin 的 Aegis 設(shè)備可以檢測(cè) 200 毫米和 300 毫米晶圓，并且可以在明場(chǎng)和暗場(chǎng)模式下運(yùn)行。明場(chǎng)法使用反射光，可以發(fā)現(xiàn)小至 15 納米的缺陷。同時(shí)，依靠散射光的暗場(chǎng)方法可以檢測(cè)達(dá) 30 納米的缺陷。

量檢測(cè)設(shè)備的靈敏度、精確性、產(chǎn)能與反應(yīng)速度等性能指標(biāo)，隨著制程進(jìn)步不斷提升。同樣大小的缺陷在成熟制程中是非致命的，在先進(jìn)制程中卻有可能是導(dǎo)致電路失效的致命性缺陷，這對(duì)量檢測(cè)設(shè)備的靈敏度提出了更高的要求。一些特殊的集成電路結(jié)構(gòu)，如超薄膜（厚度小于 10 埃）、極高深寬比、非破壞性的圖形等結(jié)構(gòu)的測(cè)量，也對(duì)量檢測(cè)設(shè)備的 3D 成像能力、多次測(cè)量一致性等指標(biāo)提出了特殊的要求。按照當(dāng)下的標(biāo)準(zhǔn)，Nextin 的 Aegis 工具分辨率聽(tīng)起來(lái)沒(méi)有特別高，但尺寸為 15 納米的缺陷仍然會(huì)嚴(yán)重破壞或損害 14 納米或 7 納米生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)中結(jié)構(gòu)的運(yùn)行，因此其檢測(cè)至關(guān)重要。光學(xué)檢測(cè)工具比電子束或多電子束工具更快，這些光學(xué)檢測(cè)工具如今已被廣泛使用?？蛻?hù)不僅是晶圓廠，也可以是存儲(chǔ)產(chǎn)品制造廠。

國(guó)產(chǎn)量檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)

2022 全球量檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模超 800 億人民幣，中國(guó)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)規(guī)模 2021 年約為 176 億人民幣。量檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)呈現(xiàn)出高度壟斷的格局，行業(yè)前 5 名分別為科磊、應(yīng)用材料、日立、泰雷光電創(chuàng)新科技。市場(chǎng)占比分別為 50.8%，11.5%，8.9%，5.6%，5.6%，行業(yè) TOP3 占據(jù)超 70% 的市場(chǎng)份額。市場(chǎng)整體被美日系企業(yè)把控。

量測(cè)設(shè)備各公司市場(chǎng)占比，來(lái)源：財(cái)通證券

科磊公司是全球最大的量檢測(cè)設(shè)備生產(chǎn)商。2022 年實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入 92.12 億美元，同比增長(zhǎng) 33.14%；其中服務(wù)收入 19.10 億美元，占比 20.74%；設(shè)備收入 73.01 億美元，占比 79.26%。公司 2022 年的研發(fā)支出達(dá) 11.05 億美元。其產(chǎn)品種類(lèi)豐富，覆蓋幾乎全部量檢測(cè)設(shè)備細(xì)分類(lèi)。在宏觀晶圓形貌檢測(cè)，無(wú)圖形缺陷檢測(cè)，有圖形缺陷檢測(cè)、掩膜版檢測(cè)、刻套誤差測(cè)量等領(lǐng)域。2022 財(cái)年，科磊公司有 26.6 億美元的收入來(lái)自中國(guó)大陸，占比 28.88%；來(lái)自中國(guó)臺(tái)灣的收入為 25.28 億美元；占比 27.45%。

科磊公司的量檢測(cè)產(chǎn)品種類(lèi)，來(lái)源：財(cái)通證券

量檢測(cè)設(shè)備難度較大，2020 年量檢測(cè)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率只有 2%。光學(xué)量檢測(cè)設(shè)備中：有圖形檢測(cè)設(shè)備占比約 31%；無(wú)圖形檢測(cè)設(shè)備占比約 10%，掩膜版量檢測(cè)設(shè)備占比約 13%，光學(xué)關(guān)鍵尺寸量測(cè)占比約 10%，套刻誤差量測(cè)占比約 7%，薄膜測(cè)量占比 3%。國(guó)內(nèi)代表的光學(xué)檢測(cè)公司之一是中科飛測(cè)，中科飛測(cè)在光學(xué)量檢測(cè)領(lǐng)域覆蓋較為廣泛。該公司產(chǎn)品主要用于前道晶圓制造和先進(jìn)封裝，分為檢測(cè)設(shè)備和量測(cè)設(shè)備兩大類(lèi)。檢測(cè)設(shè)備包括無(wú)圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備、有圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備；量測(cè)設(shè)備包括三維形貌量測(cè)設(shè)備、薄膜膜厚量測(cè)設(shè)備、套刻測(cè)量設(shè)備等。目前設(shè)備產(chǎn)品已應(yīng)用于國(guó)內(nèi) 28 納米及以上制程的集成電路產(chǎn)線中。

從數(shù)據(jù)上看，2022 年中國(guó)大陸光學(xué)類(lèi)半導(dǎo)體量檢測(cè)設(shè)備的進(jìn)口額為 33.14 億美元（220.56 億元）。同期，中國(guó)大陸電子顯微鏡與衍射儀進(jìn)口額 12.26 億美元（80.21 億元，有部分電子顯微鏡與衍射儀用于集成電路生產(chǎn)）。如此大的市場(chǎng)機(jī)遇，誰(shuí)能填補(bǔ)因?yàn)檎呦拗瓶杖钡氖袌?chǎng)？