據(jù)日本媒體報道，日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省 26 日宣布，將半導體和量子相關(guān)的 4 個技術(shù)品類納入出口管制對象。這些技術(shù)在面向所有國家和地區(qū)出口時均須事前獲得官方許可。報道認為，在日本這樣擁有相應(yīng)技術(shù)的國家先行實施出口限制，旨在防止新興技術(shù)被用于軍事領(lǐng)域。

日本經(jīng)產(chǎn)省目前已就此對《外匯及外國貿(mào)易法》相關(guān)法規(guī)（省令）做出修改，在公開征求意見階段結(jié)束后，相關(guān)法規(guī)將正式公布并最早將于 7 月生效。日媒稱，用于獲取集成電路圖像的電子顯微鏡、全環(huán)繞柵極技術(shù)等將成為新的出口管制對象。這些品類的產(chǎn)品尚未納入被稱為「瓦森納協(xié)定」的多邊出口管制協(xié)定，日本政府此舉也將相應(yīng)提高出口管制的實效性。

報道表示，擁有技術(shù)的國家先行實施限制，以防止新興技術(shù)被轉(zhuǎn)用于軍事。這一省令將從 4 月 26 日到 5 月 25 日征集公眾意見，意見征集結(jié)束后公布，并在 2 個月內(nèi)實施。新的出口管制對象還包括用來獲取集成電路圖像的電子顯微鏡等，在部分國家，這些品類早已被列為出口管制對象。

目前，國際社會原則上在《瓦森納協(xié)定》（WA）的框架下討論限制品類，各國再根據(jù)《瓦森納協(xié)定》下達成的共識制定本國的限制清單。然而在《瓦森納協(xié)定》中增加新的品類需要所有成員國同意，所以很難第一時間跟上技術(shù)的進步，日本此次新增的限制品類也將按計劃添加到《瓦森納協(xié)定》中。

本次擴大技術(shù)出口管制范圍，將使日本企業(yè)向海外出口尖端技術(shù)的限制進一步加強。據(jù)日媒報道，日本經(jīng)產(chǎn)省 24 日公布關(guān)于修改出口管制方針的中期報告。報告提出，針對可能被用于軍事領(lǐng)域的尖端材料和設(shè)備，在企業(yè)向海外進行技術(shù)轉(zhuǎn)讓時，將強化企業(yè)方面的事前報告義務(wù)。

報告提出的新方案主要針對「軍民兩用技術(shù)」加強監(jiān)管。對于日本在國際市場上所占份額較高、其他國家有興趣獲取的技術(shù)轉(zhuǎn)讓，如果以在其他國家和地區(qū)生產(chǎn)產(chǎn)品的形式進行技術(shù)轉(zhuǎn)讓，方案要求企業(yè)事先向經(jīng)產(chǎn)省報告。此外，出口企業(yè)還必須確認出口目的地國家不將出口產(chǎn)品用于制造武器。對于軍事風險較高的品種，除了面向朝鮮等現(xiàn)有「武器禁運國」外，限制范圍將擴展到面向俄羅斯、中國等「一般國家」交易行為。如果日本政府認為有安全顧慮，經(jīng)產(chǎn)大臣可要求企業(yè)申請出口許可，最終由政府決定是否出口。

實際上，近年來日本追隨美國不斷對華開展和加大出口管制。去年年初，美日荷便就尖端芯片技術(shù)和對華限制達成協(xié)議。去年 5 月 23 日，日本經(jīng)產(chǎn)省公布《外匯法》修正案，將先進芯片制造所需的 23 個品類的半導體材料和設(shè)備列入出口管制對象，其中包括了多種關(guān)鍵性材料，例如氟化氫、蝕刻液、聚酰亞胺和高純度氮等。

具體而言，涉及光刻/曝光領(lǐng)域的有 4 項，即先進制程的光刻機/涂膠顯影機/掩膜及制造設(shè)備；涉及刻蝕領(lǐng)域的有 3 項，分別是濕法/干法/各向異性的高端刻蝕；涉及清洗領(lǐng)域的有 3 項：即銅氧化膜、干燥法去除表面氧化物、晶圓表面改性后單片清洗。涉及最多的是薄膜領(lǐng)域，達 11 項。此外，涉及熱處理和測試領(lǐng)域的各 1 項。

日本政府規(guī)定，新增的 23 個品類產(chǎn)品除了面向友好國家等 42 個國家和地區(qū)之外，向其他地區(qū)的出口都需要獲得個別許可。據(jù)了解，這意味著今后日本企業(yè)在涉及該領(lǐng)域產(chǎn)品對華出口時，必須獲得經(jīng)日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)大臣審批的單獨許可證后方可對華實施出口；而單獨許可證所需申請文件類型及手續(xù)將極為繁雜，其中包括需要追加提交證明用戶業(yè)務(wù)資質(zhì)、出口產(chǎn)品用途、用戶承諾文件等諸多附件資料。

管制于去年 7 月 23 正式生效。對此，中國商務(wù)部發(fā)言人曾表示，希望日方遵守國際經(jīng)貿(mào)規(guī)則，避免對兩國經(jīng)貿(mào)合作進行政治干擾、限制企業(yè)正常自主經(jīng)營和企業(yè)間公平競爭。