6月6日消息，荷蘭光刻機制造商ASML今年將向臺積電交付其最新款光刻機。據(jù)公司發(fā)言人莫尼克·莫爾斯（Monique Mols）透露，首席財務(wù)官羅杰·達森（Roger Dassen）在近期的分析師電話會議中表示，包括臺積電和英特爾在內(nèi)的ASML兩大客戶都將在今年年底前拿到高數(shù)值孔徑極紫外線（high-NA EUV）光刻機。

英特爾已經(jīng)下單購買了這款最新的光刻機，并于去年12月底將第一臺機器運至其位于俄勒岡州的工廠。目前尚不清楚臺積電何時會收到這些設(shè)備。臺積電代表表示，公司一直與供應(yīng)商保持密切合作，但拒絕對此事作進一步評論。

該報道發(fā)布后，ASML的股價在周三美股交易中上漲了9.52%，至1041.34美元。今年以來，ASML的股價累計上漲約35%。

ASML的最新光刻機能在半導(dǎo)體上刻畫寬度僅為8納米的線條，為上一代設(shè)備的1.7分之一，這將被用于生產(chǎn)支持人工智能應(yīng)用和先進消費電子的芯片。

這款機器每臺成本為3.5億歐元（約3.8億美元），重量與兩架空客A320飛機相當。ASML是全球唯一的極紫外線光刻技術(shù)制造商，其產(chǎn)品需求被視為該行業(yè)發(fā)展的晴雨表。

臺積電曾對這款機器的價格表示了擔憂。臺積電高級副總裁張曉強今年5月在阿姆斯特丹表示：“我對高NA極紫外光刻機的性能很滿意，但價格過高?！彼€指出，預(yù)計于2026年末推出的臺積電A16節(jié)點技術(shù)不會使用ASML最新款光刻機，而是會繼續(xù)使用較舊的極紫外線設(shè)備。

盡管如此，臺積電一直積極參與ASML的高NA極紫外光刻機項目。包括亞納丹·梅農(nóng)(Janardan Menon)等杰富瑞分析師表示，他們預(yù)計臺積電將在2028年的A14節(jié)點技術(shù)中采用這款光刻機。在與達森的通話之后，分析師們表示，ASML仍然認為，2025年的收入很可能會達到預(yù)測范圍的上半?yún)^(qū)。

杰富瑞分析師還預(yù)計，ASML在今年剩余的三個季度中的平均訂單金額可能達到57億歐元（約合62億美元），從而將2025年的銷售額推高至400億歐元（435億美元）。