埃賽力達推出適用于340 nm-360 nm波長范圍的LINOS UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡
埃賽力達科技有限公司(Excelitas Technologies?)是一家創(chuàng)新的致力于改變?nèi)藗兩畹南冗M技術供應商,為生命科學、先進工業(yè)、下一代半導體、航空航天和國防終端領域的全球知名品牌提供服務。該公司近期推出了適用于252 mm中等焦距范圍的LINOS? UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡。新款LINOS F-Theta鏡頭專為配合埃賽力達 LINOS UV 擴束鏡而設計,與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比具有更優(yōu)異的耐用性,可支持激光材料加工中所需的更高的UV脈沖能量和更短的激光脈沖,可廣泛用于半導體、晶圓加工、電子顯示器和太陽能電池制造等領域。
該透鏡通過顯著減少輔助材料和潔凈裝配工藝,實現(xiàn)了優(yōu)異的耐用性。其獨特的UV設計采用了高品質(zhì)熔融石英透鏡和高端寬帶透鏡鍍膜,不僅確保了出色的光學性能,還有效減少了背向反射。其優(yōu)化的包裝和防塵材料進一步提升了鏡頭的低釋氣性能。此外,埃賽力達還優(yōu)化了生產(chǎn)、鍍膜、物流、倉儲和裝配流程,從源頭到成品全程降低污染風險,確保組件在整個工作流程中的高質(zhì)量。
主要規(guī)格和特性:
● 減少釋氣:采用先進的設計和生產(chǎn)工藝,實現(xiàn)優(yōu)異的低釋氣性能
● 優(yōu)化設計:適用于340 nm和 360 nm紫外波長,采用高端寬帶鍍膜
● 精確的掃描性能: 掃描場內(nèi)的光斑尺寸變化較小,在10 mm掃描光圈下的掃描場范圍為 142 mm2 x 142mm2米,15 mm掃描光圈下的光斑尺寸可小至 11 μm
● 改進的處理能力:可應對高功率和短脈沖應用需求
● 長期光學穩(wěn)定性:采用先進技術制造,確保鏡頭的耐用性和可靠性
● 優(yōu)化背向反射:有效減少掃描儀鏡面損傷,并延長使用壽命
● M85x1機械接口:便于輕松集成到各種系統(tǒng)中
“憑借其創(chuàng)新的減少釋氣設計和掃描場內(nèi)光斑尺寸變化,LINOS UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡重新定義了激光材料加工的光學性能和可靠性。我們很高興將這一解決方案納入LINOS F-Theta-Ronar產(chǎn)品系列中?!卑Y惲_產(chǎn)品經(jīng)理Matthias Koppitz表示
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