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          埃賽力達推出適用于340 nm-360 nm波長范圍的LINOS UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡

          —— 其優(yōu)化設計可最大限度地減少激光材料加工應用中掃描區(qū)域內(nèi)的釋氣和光斑尺寸變化
          作者: 時間:2025-02-11 來源:EEPW 收藏

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          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202502/466844.htm

          科技有限公司(Excelitas Technologies?)是一家創(chuàng)新的致力于改變?nèi)藗兩畹南冗M技術供應商,為生命科學、先進工業(yè)、下一代半導體、航空航天和國防終端領域的全球知名品牌提供服務。該公司近期推出了適用于252 mm中等焦距范圍的LINOS? UV F-Theta Ronar。新款LINOS F-Theta鏡頭專為配合 LINOS UV 擴束鏡而設計,與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比具有更優(yōu)異的耐用性,可支持激光材料加工中所需的更高的UV脈沖能量和更短的激光脈沖,可廣泛用于半導體、晶圓加工、電子顯示器和太陽能電池制造等領域。

          該透鏡通過顯著減少輔助材料和潔凈裝配工藝,實現(xiàn)了優(yōu)異的耐用性。其獨特的UV設計采用了高品質(zhì)熔融石英透鏡和高端寬帶透鏡鍍膜,不僅確保了出色的光學性能,還有效減少了背向反射。其優(yōu)化的包裝和防塵材料進一步提升了鏡頭的低釋氣性能。此外,還優(yōu)化了生產(chǎn)、鍍膜、物流、倉儲和裝配流程,從源頭到成品全程降低污染風險,確保組件在整個工作流程中的高質(zhì)量。

          主要規(guī)格和特性:

          ●   減少釋氣:采用先進的設計和生產(chǎn)工藝,實現(xiàn)優(yōu)異的低釋氣性能

          ●   優(yōu)化設計:適用于340 nm和 360 nm紫外波長,采用高端寬帶鍍膜

          ●   精確的掃描性能: 掃描場內(nèi)的光斑尺寸變化較小,在10 mm掃描光圈下的掃描場范圍為 142 mm2 x 142mm2米,15 mm掃描光圈下的光斑尺寸可小至 11 μm

          ●   改進的處理能力:可應對高功率和短脈沖應用需求

          ●   長期光學穩(wěn)定性:采用先進技術制造,確保鏡頭的耐用性和可靠性

          ●   優(yōu)化背向反射:有效減少掃描儀鏡面損傷,并延長使用壽命

          ●   M85x1機械接口:便于輕松集成到各種系統(tǒng)中

          “憑借其創(chuàng)新的減少釋氣設計和掃描場內(nèi)光斑尺寸變化,LINOS UV F-Theta Ronar重新定義了激光材料加工的光學性能和可靠性。我們很高興將這一解決方案納入LINOS F-Theta-Ronar產(chǎn)品系列中?!卑Y惲_產(chǎn)品經(jīng)理Matthias Koppitz表示



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