亞微米CMOS電路中VDD-VSSESD保護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)二
3.1 仿真分析
在亞微米的ESD結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)中,一種常見的具體的ESD瞬態(tài)檢測(cè)電壓如圖2 VDD-VSS間的電壓鉗位結(jié)構(gòu)。其原理如下:
主要利用結(jié)構(gòu)中的RC延遲作用,一般T=RC被設(shè)計(jì)為100ns-1000ns之間,而ESD脈沖通常為納秒級(jí),其上升時(shí)間為十幾納秒。初始狀態(tài),IC處于懸空狀態(tài)下,當(dāng)個(gè)正ESD電壓出現(xiàn)在VDD電源線上,而VSS相對(duì)為0時(shí),Vx通過RC開始充電,由于其充電常數(shù)T比VDD的上升時(shí)間大的多,致使Vx無法跟隨VDD的變化,從而使P0管打開,N0管關(guān)閉,Vg電壓迅速上升,N1大管開啟,從而提供了一個(gè)從VDD到VSS的低阻抗大電流泄放通道并對(duì)內(nèi)部的VDD與VSS有一個(gè)電壓鉗位作用,從而有效地保護(hù)了內(nèi)部電路。 在正常上電時(shí),因?yàn)檎5纳想姇r(shí)間為毫秒級(jí),所以Vx的充電可以跟隨VDD變化,當(dāng)上升到一定電壓時(shí),N0管開啟,P0管一直關(guān)閉,Vg=0,N1管一直關(guān)斷無效。
對(duì)上述例子中圖2結(jié)構(gòu)的具體仿真見圖5、圖6。
從上述仿真分析及實(shí)際的ESD結(jié)果來看,該結(jié)構(gòu)本身首先必須要有一定的健壯性,其自身的健壯性則與以下兩方面有關(guān):
(1)該結(jié)構(gòu)的邏輯設(shè)計(jì),即各管子尺寸的設(shè)計(jì),以保證該結(jié)構(gòu)在正常上電時(shí)能完全關(guān)斷,使電路正常工作,當(dāng)ESD發(fā)生時(shí)能有效開啟,從而保護(hù)內(nèi)部結(jié)構(gòu)。通常T=RC的值的設(shè)計(jì)要在100ns-1000ns之間,R可由倒比管或阱電阻實(shí)現(xiàn),而C可直接由MOS電容構(gòu)成,P0、N0管的寬長(zhǎng)比W/L不用很大,其溝長(zhǎng)比內(nèi)部最小溝長(zhǎng)稍大,該結(jié)構(gòu)因?yàn)槌惺芰薊SD大電流泄放通道的任務(wù),N1管的寬長(zhǎng)比4W/L要比較大,在不影響面積的情況下盡可能大,管子溝長(zhǎng)比內(nèi)部最小溝長(zhǎng)大。
(2)該結(jié)構(gòu)的版圖設(shè)計(jì)非常關(guān)鍵,其設(shè)計(jì)不當(dāng)就可能導(dǎo)致自身的損壞。特別是N1管子版圖設(shè)計(jì),其漏區(qū)孔距柵要有一定距離,即有一定的壓艙(Ballast)電阻時(shí)電流開啟泄放更均勻。
評(píng)論