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          顯微鏡在戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)LED中的應用

          作者: 時間:2013-09-26 來源:網(wǎng)絡 收藏
          組件,也就是指的P-N結。其主要功能是:把電能轉化為光能,芯片的主要材料為單晶硅。半導體晶片由兩部分組成,一部分是P型半導體,在它里面空穴占主導地位,另一端是N型半導體,在這邊主要是電子。但這兩種半導體連接起來的時候,它們之間就形成一個P-N結。當電流通過導線作用于這個晶片的時候,電子就會被推向P區(qū),在P區(qū)里電子跟空穴復合,然后就會以光子的形式發(fā)出能量,這就是發(fā)光的原理。而光的波長也就是光的顏色,是由形成P-N結的材料決定的。

            3、應用:

            a)利用掃描電鏡檢測外延片生長后晶面的位錯腐蝕形貌信息;

            晶面的位錯腐蝕形貌提供的意義:各個樣品的位錯腐蝕呈現(xiàn)不同的形狀和晶體所屬點群和晶體的結構所決定,化學腐蝕劑的作用就是破壞晶體內(nèi)部分子和原子間相互作用鍵,鍵力較小的首先被破壞,從而形成某種特定形狀的腐蝕斑,因此良好的成像,已經(jīng)腐蝕斑細節(jié)的完美呈現(xiàn),能完全體現(xiàn)出晶體生長的質量形態(tài)。

            提高外延晶格質量和降低材料缺陷,是生產(chǎn)出高性能及高可靠性器件的前提,否則通過其他途徑是難以彌補的。明確了外延材料晶體質量對器件可靠性的影響,通過對外延材料的質量控制,以期減少材料缺陷密度,提高外延層晶體質量和有效提高LED器件的可靠性。

            b)封裝前的芯片檢驗:用光學檢查材料表面,確定是否有機械損傷及麻點、芯片尺寸及電極大小是否符合工藝要求,電極圖案是否完整。

            c)LED芯片氧化厚度:檢測技術包括顏色比較、邊緣記數(shù)、干涉、橢偏儀、刻紋針振幅儀和掃描電子

            d)芯片晶圓結深的測量:掃描電鏡對LED芯片晶圓PN結結深的厚度檢測

            e)掃描電鏡在LED芯片刻蝕過程中表面粗化工藝研究的應用:表面粗化技術解決因為半導體材料折射率(平均3.5)大于空氣折射率而使入射角大于臨界角的光線發(fā)生全反射無法出射所造成的損失。光在粗化表面的出射有很大的隨機性,需要大量實驗來研究粗糙度與粗化尺度對出光率的影響。光從高折射率的LED窗口層材料GaP入射到低折射率的空氣中,會產(chǎn)生全反射現(xiàn)象,而損失大量的出射光。用表面粗化法可以抑制全反射提高光提取效率。掃描電鏡能夠直接觀察表面粗化后樣品表面的結構,對比粗化處理前后表面的粗糙度。掃描電鏡景深大,圖象富有立體感,可觀察經(jīng)過粗化處理的表面三維島狀結構。

            三、蔡司光學及掃描電鏡在LED成品器件失效分析中的應用。

            采用掃描電鏡和X射線能譜分析儀可以對由于熱過載引起的大功率發(fā)光二極管分層和發(fā)黑失效進行分析。分析結果表明,由于發(fā)光二級管的輸入電流增大,芯片結溫升高產(chǎn)生熱過載引起芯片與環(huán)氧樹脂透鏡之間出現(xiàn)熱應力失配,加之環(huán)氧樹脂材料容易受潮膨脹而產(chǎn)生應力,最終導致發(fā)光二極管在芯片表面與環(huán)氧樹脂的界面產(chǎn)生分層。與芯片表面接觸的環(huán)氧樹脂材料在高溫的作用下產(chǎn)生老化,降解后的環(huán)氧樹脂內(nèi)部結構發(fā)生明顯改變,形成C的單質及其氧化物沉積在芯片表面,這是芯片表面發(fā)黑的主要原因

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          關鍵詞: 顯微鏡 LED

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