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          40Gb/s WD-PIN-PD/TIA 組件的光電特性及其測試

          作者: 時間:2012-11-06 來源:網絡 收藏
          1.前言

          對于40Gb/s 來說,其光探測器一般不能采用正面進光的PIN-PD結構。因為這種正面進光的探測器PN結電容和雜散電容大、載流子渡越時間長,從而限制了它的光響應速率(或傳輸帶寬)。為了提高光響應速率(帶寬),探測器采用了窄條型側面進光的波導型PIN結構(WD-PIN-PD)。這種結構的PN結電容可小于80ff (1ff = 10-15f ),且由于采用了半絕緣襯底,降低了雜散電容;通過減小光吸收區(qū)的厚度,減小了載流子渡越時間。這些結構上的變化,使波導型PIN光探測器的光響應帶寬可大于30GHz,有的甚至達到50GHz以上。

          2003年,我們開始設計、試制40Gb/s WD-PIN-PD,通過近兩年的實踐,我們成功地制作了40Gb/s WD-PIN-PD。測量結果表明,該探測器的暗電流小于15nA,光響應度可大于0.46A/W,而-3dB模擬帶寬達32GHz。用它和40b/s TIA組裝在一起,光接受靈敏度可達-7dBm。

          2.40Gb/s WD-PIN-PD結構

          40Gb/s WD-PIN-PD有幾種不同的結構。我們設計了一種準共面波導(CPW)-側面進光的波導型探測器一體化結構,其示意圖如圖1所示。


          圖1 具有CPW的40Gb/s WD-PIN-PD結構示意圖

          圖1 為CPW輸出和WD- PIN-PD的一體化結構。這種結構的核心是40Gb/s WD- PIN-PD。它由摻Fe的半絕緣InP襯底、n+-InP過渡層、n-InP光匹配層、n-In0.52Al0.48As光波導層、i-In0.53Ga0.47As光吸收層、P-In0.52Al0.48As光波導層、P+-InP光匹配層和P+-In0.53Ga0.47As接觸層構成,其中i-In0.53Ga0.47As光吸收層厚度為0.52-0.58μm。

          為便于形成平如鏡面的進光面,先把它制作成一個雙臺面孿芯結構,如圖2所示,最后通過解理技術,形成單個管芯.這種孿芯結構已申報了國家專利。雙臺面孿芯結構如圖2所示。


          圖2 雙臺面孿芯結構示意圖

          3. 40Gb/s WD-PIN-PD的

          40Gb/s WD-PIN-PD的包括I-V特性、波長響應特性、光電轉換特性、開關特性等,它可以用光電流、暗電流、擊穿電壓、PN結電容、波長響應范圍、光響應度、-3dB帶寬、相對強度噪等技術指標來衡量其的優(yōu)劣。對于40Gb/s WD-PIN-PD來說,關鍵的技術指標是暗電流、-3dB帶寬和光響應度。

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