KLA-Tencor正式推出基于 Linux 的新型產(chǎn)品 LithoWare，該系統(tǒng)可幫助半導(dǎo)體電路設(shè)計人員大幅度降低 RET* 和 OPC* 工藝開發(fā)的時間和成本。LithoWare是一款基于業(yè)內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)的PROLITH 模型的光刻優(yōu)化工具，它允許客戶同時優(yōu)化 RET 和工藝條件，并將校準(zhǔn)數(shù)據(jù)采集降至最少，從而有效縮短從設(shè)計到生產(chǎn)的時間。

　　“LithoWare 擁有無可比擬的預(yù)測精度以及在 Linux 計算機(jī)集群上運(yùn)行的特性，它為 RET 開發(fā)人員提供了雙項優(yōu)勢?！?a class="contentlabel" href="http://cafeforensic.com/news/listbylabel/label/KLA-Tencor">KLA-Tencor Corporation 工藝分析事業(yè)部總經(jīng)理 Edward Charrier 表示?！癛ET 工程師可利用 LithoWare 獨(dú)有的靈活性和預(yù)測能力，在探索光刻工藝條件（如：光源照明、最新光刻膠、PEB 和其他等）的同時，優(yōu)化其 OPC。通過 LithoWare，他們還可更快地創(chuàng)建 RET 菜單，并確保其在整個工藝窗口中都能正常工作，從而增強(qiáng)設(shè)計的穩(wěn)定性和可生產(chǎn)性?！?/P>

　　目前大多數(shù) EDA 產(chǎn)品運(yùn)行于 Linux/Unix 環(huán)境下，因此同樣基于 Linux 的 LithoWare 可全面兼容這些產(chǎn)品。用戶可通過 LithoWare 裝載 GDSII 文件，選擇多個摸擬區(qū)域，互動改變光照條件和 OPC 修正，并將 OPC 修正后的掩膜圖樣輸出為 GDSII 文件。 

　　最近的估計表明，32 納米開發(fā)需數(shù)以億計的光刻摸擬計算。LithoWare 運(yùn)行在 Linux 環(huán)境下，可將大量模擬工作量分布到很多臺計算工作站上進(jìn)行，從而允許工程師執(zhí)行先進(jìn)的光刻計算，并探索擴(kuò)展的工藝參數(shù)，而這些在 PC或其他工具上都是無法實現(xiàn)的，因為它們無法承擔(dān)每次變化所帶來的大量重復(fù)校準(zhǔn)工作。LithoWare 基于 Linux 的架構(gòu)還可有效利用客戶現(xiàn)有的計算機(jī)投資，而無需配置額外的硬件。LithoWare 現(xiàn)已應(yīng)用于美國和日本的 IC 公司，幫助提升其 RET 開發(fā)效率。

　　Charrier先生介紹說：“用于全晶片 RET/OPC 的常規(guī)產(chǎn)品在不同光照情況下預(yù)測能力非常有限，而且不支持不斷的工藝變化，它們需要耗時、昂貴的工藝程序，包括掩膜加工、晶片印刷、測量和設(shè)備校準(zhǔn)等等，這往往需要幾天、幾周甚至幾個月的時間。LithoWare 提供獨(dú)有的‘假設(shè)分析’功能，可動態(tài)地優(yōu)化大量工藝和 RET 變量，使得工程師一次就能獲得準(zhǔn)確結(jié)果?！?/P>

　　與許多傳統(tǒng)產(chǎn)品相比，LithoWare為RET/OPC 工程師和設(shè)計人員提供了更加方便易用的工具。由于它可幫助 RET/OPC 工程師或設(shè)計人員快速檢查設(shè)計或新創(chuàng)意是否違反光刻條件，因而能夠縮短開發(fā)周期。這些 RET/OPC 技術(shù)人員無需等待工藝工程師或代工廠合作伙伴提供專門的工藝信息和結(jié)果。