ASM International透露其競爭對手Tokyo Electron Ltd.已收購了其4.9%的股份。

　　ASMI還宣布某家臺灣代工廠已選擇了ASMI的Pulsar原子層淀積(ALD)設備，用于28nm節(jié)點高k柵介質工藝的量產。

　　業(yè)界猜測該代工廠是臺積電。臺積電正在開發(fā)28nm高k金屬柵工藝，但該公司拒絕對細節(jié)進行評論。其競爭對手聯(lián)電也在開發(fā)28nm高k工藝。