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          一種基于40nm CMOS工藝的新型溫度補(bǔ)償、高電源抑制比的帶隙基準(zhǔn)源

          • 基于TSMC40LP工藝設(shè)計(jì)了一種新穎的溫度補(bǔ)償、高電源抑制比的帶隙基準(zhǔn)源。本設(shè)計(jì)采用全MOSFET設(shè)計(jì),工作于1.1 V電源電壓,通過(guò)將MOSFET偏置在零溫度系數(shù)工作點(diǎn),并結(jié)合溫度補(bǔ)償技術(shù)和有源衰減電路,實(shí)現(xiàn)在-40 ℃~125 ℃內(nèi)溫度變化系數(shù)為6.6 ppm/℃,低頻下電源抑制比為93 dB,高頻下電源抑制比為56 dB,與此同時(shí),利用阻抗調(diào)試對(duì)環(huán)路穩(wěn)定性進(jìn)行了補(bǔ)償。
          • 關(guān)鍵字: 帶隙基準(zhǔn)  全CMOS  低電源電壓  曲率補(bǔ)償  高電源抑制比  零溫系數(shù)點(diǎn)  201804  
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          高電源抑制比介紹

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