突破！中微半導(dǎo)體5nm刻蝕機(jī)獲臺(tái)積電批量采購(gòu)

• 早在2018年底,中微半導(dǎo)體就曾對(duì)外透露,其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證,性能優(yōu)良,將用于臺(tái)積電的全球首條5nm制程生產(chǎn)線。值得一提的是,中微半導(dǎo)體也是唯一進(jìn)入臺(tái)積電7nm制程蝕刻設(shè)備的大陸本土設(shè)備商。據(jù)悉,中微半導(dǎo)體與臺(tái)積電在28nm制程時(shí)便已開(kāi)始合作,并一直延續(xù)到10nm和7nm制程。近日,中微半導(dǎo)體發(fā)布會(huì)了在2019年的財(cái)報(bào),2019年的收益達(dá)到了19.47億元,同比增長(zhǎng)為18.77%,而歸母凈利潤(rùn)為1.89億,同比增長(zhǎng)為107.51%,年報(bào)中表示公司開(kāi)發(fā)的高端刻蝕設(shè)備已在各大國(guó)際知名
• 關(guān)鍵字： 中微半導(dǎo)體  5nm刻蝕機(jī)