早在2018年底,中微半導(dǎo)體就曾對(duì)外透露,其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證,性能優(yōu)良,將用于臺(tái)積電的全球首條5nm制程生產(chǎn)線。值得一提的是,中微半導(dǎo)體也是唯一進(jìn)入臺(tái)積電7nm制程蝕刻設(shè)備的大陸本土設(shè)備商。據(jù)悉,中微半導(dǎo)體與臺(tái)積電在28nm制程時(shí)便已開始合作,并一直延續(xù)到10nm和7nm制程。

近日,中微半導(dǎo)體發(fā)布會(huì)了在2019年的財(cái)報(bào),2019年的收益達(dá)到了19.47億元,同比增長(zhǎng)為18.77%,而歸母凈利潤(rùn)為1.89億,同比增長(zhǎng)為107.51%,年報(bào)中表示公司開發(fā)的高端刻蝕設(shè)備已在各大國(guó)際知名廠商的65nm到7nm的芯片生產(chǎn)線上。

另外,財(cái)報(bào)還顯示,中微半導(dǎo)體根據(jù)客戶的需求已經(jīng)開發(fā)出了5nm刻蝕設(shè)備,并且獲得了行業(yè)領(lǐng)先客戶的批量訂單。雖然財(cái)報(bào)并未公開該“領(lǐng)先客戶”的具體名字,不過應(yīng)該可以確認(rèn)是臺(tái)積電,因?yàn)楝F(xiàn)在只有他們量產(chǎn)了5nm工藝。

而中微半導(dǎo)體5nm刻蝕機(jī)成功獲得臺(tái)積電的批量采購(gòu),也反應(yīng)了中國(guó)廠商在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的大突破。