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華虹NEC 非外延0.35um BCD工藝進(jìn)入量產(chǎn)
- 世界領(lǐng)先的純晶圓代工廠之一，上海華虹NEC電子有限公司(以下簡稱“華虹NEC”)19日宣布，公司非外延0.35um BCD工藝開始進(jìn)入量產(chǎn)。 華虹NEC在2008年成功研發(fā)并量產(chǎn)了BCD350 (0.35 微米Bipolar CMOS DMOS)工藝。針對市場的不同需求，華虹NEC現(xiàn)又推出了非外延工藝的 0.35um BCD工藝，即PMU350工藝。PMU350在BCD350的基礎(chǔ)上用deep Nwell替代了外延層，并簡化了工藝流程，使該工藝更具競爭力。目前，PMU35
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