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          拆解:三星Galaxy Watch 7中的Exynos W1000處理器3nm GAA工藝

          • 三星最新推出的Galaxy Watch 7,繼續(xù)重新定義可穿戴技術的極限。這款最新型號承襲了其前身產(chǎn)品的成功之處,同時在性能、健康追蹤和用戶體驗方面實現(xiàn)了重大突破。TechInsights在位于渥太華和華沙的實驗室收到了Galaxy Watch系列的最新款,目前正在對其進行拆解和詳細的技術分析。敬請期待我們對Galaxy Watch 7內(nèi)部結構的深入分析,我們將揭示這款設備在智能手表領域脫穎而出的原因。? Galaxy Watch 7的核心是三星Exynos W1000處理器。這款最新的Exyn
          • 關鍵字: 三星  Galaxy Watch 7  Exynos W1000  處理器  3nm  GAA  

          拜登政府恐對中國大陸封鎖最強GAA技術

          • 美中貿(mào)易戰(zhàn)沖突未歇,傳出美國將再次出手打擊大陸半導體產(chǎn)業(yè),針對最新的環(huán)繞閘極場效晶體管(GAA)技術祭出限制措施,限制其獲取人工智能(AI)芯片技術的能力,換言之,美國將防堵大陸取得先進芯片,擴大受管制的范圍。 美國財經(jīng)媒體引述知情人士消息報導,拜登政府考慮新一波的半導體限制措施,以避免大陸能夠提升技術,進而增強軍事能力,有可能限制大陸取得GAA技術,但確切狀況仍得等官方進一步說明,且不清楚官員何時會宣布新措施。若此事成真,大陸發(fā)展先進半導體將大受打擊。目前三星從3納米開始使用GAA技術,臺積電則從2納米
          • 關鍵字: GAA  臺積電  三星  

          三星Exynos 2500芯片試產(chǎn)失敗:3nm GAA工藝仍存缺陷

          • 最新報道,三星的3nm GAA生產(chǎn)工藝存在問題,原計劃搭載于Galaxy S25/S25+手機的Exynos 2500芯片在生產(chǎn)過程中被發(fā)現(xiàn)存在嚴重缺陷,導致良品率直接跌至0%。報道詳細指出,由于Exynos 2500芯片在3nm工藝下的生產(chǎn)質量問題,未能通過三星內(nèi)部的質量檢測。這不僅影響了Galaxy S25系列手機的生產(chǎn)計劃,還導致原定于后續(xù)推出的Galaxy Watch 7的芯片組也無法如期進入量產(chǎn)階段。值得關注的是,Exynos 2500原計劃沿用上一代的10核CPU架構,升級之處在于將采用全新的
          • 關鍵字: 三星  Exynos  芯片  3nm  GAA  

          消息稱三星 3nm GAA 工藝試產(chǎn)失敗,Exynos 2500 芯片被打上問號

          •  2 月 2 日消息,根據(jù)韓媒 DealSite+ 報道,三星的 3nm GAA 生產(chǎn)工藝存在問題,嘗試生產(chǎn)適用于 Galaxy S25 / S25+ 手機的 Exynos 2500 芯片,均存在缺陷,良品率 0%。報道指出由于 3nm 工藝的 Exynos 2500 芯片因缺陷未能通過質量測試,導致后續(xù) Galaxy Watch 7 的芯片組也無法量產(chǎn)。此前報道,Exynos 2500 將沿用上一代的 10 核 CPU 架構,同時引入全新的 Cortex-X5 核心。Exynos 2500 的
          • 關鍵字: 三星  3nm GAA  Exynos 2500 芯片  

          臺積電2nm制程進展順利 晶圓廠最快4月進機

          • 臺積電在3nm制程工藝于2022年四季度開始量產(chǎn)之后,研發(fā)和量產(chǎn)的重點隨之轉向下一代2nm制程工藝,計劃在2025年實現(xiàn)量產(chǎn)。這意味著工廠及相關的設備要做好準備,以確保按計劃順利量產(chǎn)。臺積電進入GAA時代的2nm制程進展順利,最新援引供應鏈合作伙伴的消息報道稱,位于新竹科學園區(qū)的寶山2nm首座晶圓廠P1已經(jīng)完成鋼構工程,并正在進行無塵室等內(nèi)部工程 —— 最快4月啟動設備安裝工作,相關動線已勘查完成。而P2及高雄兩地的工廠則計劃在2025年開始制造采用此項技術的2nm芯片,中科二期則視需求狀況預定
          • 關鍵字: 臺積電  2nm  制程  晶圓廠  GAA  

          臺積電2納米驚爆大弱點?三星搶訂單

          • 臺積電為全球晶圓代工龍頭,后頭追兵三星與英特爾來勢洶洶,但臺積電在技術與訂單仍保持一定優(yōu)勢,尤其三星至今在3納米方面,依然無法取得頂尖客戶的信任,三星高層也坦言,一旦臺積電在2納米轉進GAA技術,三星還是得向臺積電看齊學習。即使如此,三星也打算透過低價策略搶市,與臺積電做出差別。綜合外媒報導,三星雖在3納米就開始使用GAA技術,量產(chǎn)時間也比臺積電早數(shù)個月,但在良率與技術上無法獲得客戶青睞,蘋果、輝達等科技巨頭的大單仍在臺積電手上,臺積電3納米沿用較舊的FinFET技術。三星不甘示弱,希望能在2納米領域上扭
          • 關鍵字: 臺積電  2納米  三星  GAA  

          日立高新技術公司部宣布推出其GT2000高精度電子束測量系統(tǒng)

          • 日立高新技術公司宣布推出其GT2000高精度電子束測量系統(tǒng)。GT2000利用日立高新技術在CD-SEM*1方面的技術和專業(yè)知識,在那里占有最大的市場份額。GT2000配備了用于尖端3D半導體器件的新型檢測系統(tǒng)。它還利用低損傷高速多點測量功能用于high-NA EUV*2抗蝕劑晶片成像,以最小化抗蝕劑損傷并提高批量生產(chǎn)的產(chǎn)率。日立高新技術(Hitachi High-Tech)GT2000 CD-SEM將能夠實現(xiàn)高級半導體器件制造過程中的高精度、高速測量和檢測,這些半導體器件正變得越來越小型化和復雜化,并有助
          • 關鍵字: 日立高新  測試測量  GAA  CFET  

          GAA技術才開始,半導體大廠已著手研發(fā)下一代CFET技術

          • 外媒eNewsEurope報道,英特爾和臺積電將在國際電子元件會議(IEDM)公布垂直堆疊式(CFET)場效晶體管進展,這有望使CFET成為十年內(nèi)最可能接替全環(huán)繞柵極晶體管(GAA)的下一代先進制程。CFET場效晶體管將n和p兩種MOS元件堆疊在一起,以實現(xiàn)更高的密度。該項技術最初由比利時微電子研究中心(IMEC)于2018年所提出的。雖然,大多數(shù)早期研究以學術界為主,但英特爾和臺積電等半導體企業(yè)現(xiàn)在已經(jīng)開始這一領域的研發(fā),借此積極探索這種下一代先進晶體管技術。英特爾表示,研究員建構一個單片3DCFET,
          • 關鍵字: GAA  CFET  

          三星向外界公布 GAA MBCFET 技術最新進展

          • 三星 Foundry 在 5 月 9 日的以色列半導體展會 ChipEx2023 上公布了旗下 3nm GAA MBCFET 技術的最新進展以及對 SRAM 設計的影響。3納米GAA MBCFET的優(yōu)越性GAA指的是晶體管的結構。晶體管是電子電路的組成部分,起到開關的作用,也就是當門極施加電壓時,電流在源極和漏極之間通過通道流動。在晶體管設計的優(yōu)化過程中,有三個關鍵變量:性能、功耗和面積(PPA)。晶體管制造商一直在不斷追求更高的性能、更低的功耗要求和更小的面積。隨著晶體管尺寸的縮小,它們的結構也從平面晶
          • 關鍵字: 三星  GAA  MBCFET  

          三星電子:目標到 2027 年將芯片代工廠產(chǎn)能提高三倍以上

          • IT之家 10 月 21 日消息,據(jù) BusinessKorea 報道,三星電子 10 月 20 日在首爾江南區(qū)舉行了 2022 年三星代工論壇。該公司代工業(yè)務部技術開發(fā)部副總裁 Jeong Ki-tae 表示,三星電子今年在世界范圍內(nèi)首次成功地量產(chǎn)了基于 GAA 技術的 3 納米芯片,與 5 納米芯片相比,3 納米芯片的功耗降低了 45%,性能提高了 23%,面積減少了 16%。三星電子還計劃不遺余力地擴大其芯片代工廠的生產(chǎn)能力,其目標是到 2027 年將其生產(chǎn)能力提高三倍以上。為此,這家芯片
          • 關鍵字: 三星  GAA 技術  

          三星公布3納米GAA架構制程技術芯片開始生產(chǎn)

          • 2022年6月30日,作為先進的半導體技術廠商之一的三星電子今日宣布, 基于3納米(nm)全環(huán)繞柵極(Gate-All-AroundT,簡稱 GAA)制程工藝節(jié)點的芯片已經(jīng)開始初步生產(chǎn)。較三星5納米(nm)而言,優(yōu)化的3納米(nm)工藝,性能提高23%,功耗降低45%,芯片面積減少16%三星電子首次實現(xiàn)GAA"多橋-通道場效應晶體管"(簡稱: MBCFETTM  Multi-Bridge-Channel FET)應用打破了FinFET技術的性能限制,通過降低工作電壓水平來提高
          • 關鍵字: 三星  3納米  GAA  

          揭秘3nm/2nm工藝的新一代晶體管結構

          臺積電2nm制程研發(fā)取得突破 將切入GAA技術

          • 據(jù)臺灣媒體報道,臺積電沖刺先進制程,在2nm研發(fā)有重大突破,已成功找到路徑,將切入環(huán)繞式柵極技術(gate-all-around,簡稱GAA)技術。臺積電臺媒稱,三星已決定在3nm率先導入GAA技術,并宣稱要到2030年超過臺積電,取得全球邏輯芯片代工龍頭地位,臺積電研發(fā)大軍一刻也不敢松懈,積極投入2nm研發(fā),并獲得技術重大突破,成功找到切入GAA路徑。臺積電負責研發(fā)的資深副總經(jīng)理羅唯仁,還為此舉辦慶功宴,感謝研發(fā)工程師全心投入。臺積電3nm制程預計明年上半年在南科18廠P4廠試產(chǎn)、2022年量產(chǎn),業(yè)界以
          • 關鍵字: 臺積電  2nm  GAA  

          看看國外廠商正在發(fā)力研究的這些新技術

          •   每年十二月,在美國舊金山或華盛頓哥倫比亞特區(qū)其中一處舉行的年度電子會議。此會議作為一個論壇,在其中報告半導體、電子元件技術、設計、制造、物理與模型等領域中的技術突破。這個會會議就是IEEE國際電子元件會議(International Electron Devices Meeting,縮寫:IEDM)  在每一界的IEDM上,全球工業(yè)界與學界的管理者、工程師和科學家將會聚集在一起討論納米級CMOS晶體管技術、先進內(nèi)存、顯示、感測器、微機電系統(tǒng)元件、新穎量子與納米級規(guī)模元件、粒子物理學現(xiàn)象、光電工程、
          • 關鍵字: DRAM  GAA-FET  
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