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asml 文章進(jìn)入asml技術(shù)社區(qū)

臺(tái)積電取得ASML超紫外光微影設(shè)備以研發(fā)新世代工藝

　　TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設(shè)備，是全球六個(gè)取得這項(xiàng)設(shè)備的客戶伙伴之一。　　這項(xiàng)設(shè)備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(GigaFab™)-臺(tái)積十二廠，用以發(fā)展新世代的工藝技術(shù)。TSMC也將成為全球第一個(gè)可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專(zhuān)業(yè)集成電路制造服務(wù)業(yè)者。　　相較于現(xiàn)行浸潤(rùn)式微影技術(shù)以193納米波長(zhǎng)當(dāng)作光源，超
關(guān)鍵字：臺(tái)積電 EUV 微影設(shè)備 ASML

半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)：全面走出陰影

　　10月是收獲的季節(jié)，對(duì)全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)來(lái)說(shuō)，這句話同樣適用。經(jīng)歷了全球經(jīng)濟(jì)危機(jī)后，各大設(shè)備公司10-11月公布的季度報(bào)表開(kāi)始全面飄紅。　　Applied Materials 11月11日公布的09年第4季財(cái)報(bào)顯示公司已扭虧為盈，凈收入實(shí)現(xiàn)1.38億美元，而上季虧損為5500萬(wàn)美元。其Q4銷(xiāo)售額為15.3億美元，其中半導(dǎo)體設(shè)備銷(xiāo)售占6.56億美元，公司同時(shí)已收到了6.29億美元的半導(dǎo)體設(shè)備新訂單。　　ASML總裁兼CEO Eric Meurice 更是喜不自勝，因?yàn)樵?0月14日公布的09
關(guān)鍵字： ASML 半導(dǎo)體設(shè)備

光刻巨頭ASML四季度來(lái)首次盈利

　　隨著芯片廠商設(shè)備訂單的恢復(fù)，歐洲最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML報(bào)出了2930萬(wàn)美元的凈利潤(rùn)，為四個(gè)季度來(lái)首次盈利。　　ASML在今天的聲明中表示該公司第三季度凈利潤(rùn)為1970萬(wàn)歐元(2930萬(wàn)美元)，即每股5歐分，低于去年同期7330萬(wàn)歐元的利潤(rùn)水平。不過(guò)這超過(guò)了彭博社調(diào)查7位分析師所得出的1060萬(wàn)歐元的市場(chǎng)預(yù)期。　　該公司首席執(zhí)行官埃里克·莫里斯(EricMeurice)表示，ASML的設(shè)備可以讓芯片客戶生產(chǎn)出尺寸更小的芯片，隨著客戶在設(shè)備投資上恢復(fù)投入，該公司本季度銷(xiāo)售額將
關(guān)鍵字： ASML 光刻半導(dǎo)體設(shè)備

ASML：客戶下單增溫　微顯影設(shè)備2010年成長(zhǎng)30%

　　半導(dǎo)體市場(chǎng)回溫，ASML市場(chǎng)智庫(kù)總監(jiān)Antonio Mesquida Küsters表示，客戶對(duì)設(shè)備下單需求增溫，他引用研究機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)，2010年半導(dǎo)體微顯影設(shè)備可望成長(zhǎng)30%至少達(dá)到40億歐元。尤其晶圓代工領(lǐng)域，經(jīng)過(guò)18個(gè)月的壓低資本支出，現(xiàn)在業(yè)者更積極投資擴(kuò)充產(chǎn)能，他個(gè)人亦樂(lè)見(jiàn)臺(tái)積電積極擴(kuò)充產(chǎn)能，滿足客戶投單需求的做法。　　Küsters表示，2008 年是變動(dòng)相當(dāng)劇烈的一年，回顧2007年時(shí)研究機(jī)構(gòu)還對(duì)2008年奧運(yùn)所帶來(lái)的商機(jī)相當(dāng)樂(lè)觀，孰料DRAM價(jià)格快速崩落約65%，緊
關(guān)鍵字： ASML DRAM 晶圓代工

2010決勝年　ASML 主攻38納米、EUV設(shè)備

　　全球最大半導(dǎo)體微顯影設(shè)備業(yè)者ASML表示，目前客戶訂單增加相當(dāng)多，但主是來(lái)自半導(dǎo)體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴(kuò)充的需求，半導(dǎo)體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導(dǎo)體制程，摩爾定律預(yù)料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進(jìn)的浸潤(rùn)式微顯影機(jī)種來(lái)看，新一代的機(jī)種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來(lái)將快速增加出貨，同時(shí)深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單，對(duì)ASML來(lái)說(shuō)2010年將是極重要的一年。　　ASML NXT技術(shù)平臺(tái)資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機(jī)種NXT 1950i
關(guān)鍵字： ASML 38納米 EUV設(shè)備

EUV: 一場(chǎng)輸不起的賭局

　　2010年， ASML將有5臺(tái)最先進(jìn)的EUV設(shè)備整裝發(fā)往全球的5家客戶。業(yè)界傳言，最新的NXE3100系統(tǒng)將發(fā)送給3家頂級(jí)存儲(chǔ)器廠商和2家頂級(jí)邏輯廠商。EUV勝利的曙光正在向我們招手，雖然目前工程師們還在荷蘭Veldhoven專(zhuān)為EUV新建的大樓中忙碌，在設(shè)備出廠前，解決正在發(fā)生的問(wèn)題，并預(yù)測(cè)著各種可能發(fā)生的問(wèn)題及解決方案。　　人們談?wù)揈UV的各種技術(shù)問(wèn)題已歷時(shí)數(shù)年，因?yàn)槠洳ㄩL(zhǎng)較目前的193nm縮短10倍以上，EUV一直是通往22nm的實(shí)力派參賽選手之一。與此同時(shí)，延伸immersion技術(shù)，用其
關(guān)鍵字： ASML EUV 22nm

EUV蓄勢(shì)待發(fā) Carl Zeiss向ASML出貨EUV光學(xué)系統(tǒng)

　　德國(guó)Carl Zeiss SMT AG已向半導(dǎo)體設(shè)備商ASML出貨首臺(tái)EUV光學(xué)系統(tǒng)。該公司已使EUV光學(xué)系統(tǒng)達(dá)到了生產(chǎn)要求。　　光學(xué)系統(tǒng)是EUV設(shè)備的核心模塊，首臺(tái)EUV設(shè)備預(yù)計(jì)將在2010年出貨。幾周前，美國(guó)公司Cymer完成了EUV光源的開(kāi)發(fā)，EUV光源是EUV光刻設(shè)備另一個(gè)關(guān)鍵模塊。該技術(shù)將使芯片制造商進(jìn)一步縮小芯片的特征尺寸，提高生產(chǎn)效率。　　據(jù)Carl Zeiss 介紹，目前出貨的光學(xué)系統(tǒng)已經(jīng)研發(fā)了約15年。
關(guān)鍵字： ASML EUV 光刻設(shè)備

ASML一體化光刻解決方案延續(xù)摩爾定律

　　ASML集團(tuán)公司在美國(guó)舊金山舉行的SEMICON West展會(huì)上發(fā)布多項(xiàng)全新光刻設(shè)備，讓芯片制造商能夠繼續(xù)縮小半導(dǎo)體器件尺寸。FlexRay™ (可編程照明技術(shù))和BaseLiner™ (反饋式調(diào)控機(jī)制)為ASML一體化光刻技術(shù) (holistic lithography)的一部分，具有高穩(wěn)定性，能夠優(yōu)化和穩(wěn)定制造工藝。　　半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的推動(dòng)力量來(lái)自小型化趨勢(shì)，以降低生產(chǎn)成本，同時(shí)提高器件性能。不過(guò)，隨著半導(dǎo)體器件尺寸的縮小，工藝窗口(生產(chǎn)出合格芯片的工藝允許偏差)也相應(yīng)
關(guān)鍵字： ASML FlexRay BaseLiner Eclipse

ASML的上半年訂單落空預(yù)期下半年有望回復(fù)

　　按全球第一大光刻設(shè)備供應(yīng)商ASML公司的預(yù)估，其Q1的銷(xiāo)售額將從08年Q4的4.94億歐元下降到1.84億歐元，而去年同期為9.19億歐元，下降達(dá)80%。　　ASML預(yù)計(jì)Q2的銷(xiāo)售額在2.1-2.3億歐元間，因?yàn)槭芄に囍瞥痰倪M(jìn)一步縮小推動(dòng)，產(chǎn)業(yè)可能會(huì)在今年下半年開(kāi)始復(fù)蘇，訂單回歸到4.0-5.0億歐元。新的工藝制程會(huì)要求購(gòu)買(mǎi)新的或者升級(jí)現(xiàn)有的設(shè)備。　　如08年僅只有各領(lǐng)域的領(lǐng)先者在購(gòu)買(mǎi)設(shè)備，主要集中在如閃存flash的45nm、DRAM的55nm及代工的45nm客戶。預(yù)計(jì)2009年會(huì)加速工藝制
關(guān)鍵字： ASML 光刻 DRAM

Gartner發(fā)布2008年設(shè)備商排名 ASML取代TEL排名第二

　　Gartner近日發(fā)布2008年半導(dǎo)體設(shè)備商排名，Applied Materials仍位居榜首。　　去年，盡管Applied Materials的銷(xiāo)售收入減少39.8%，但市場(chǎng)份額占13.2%。　　ASML取代了TEL位居第二。ASML的先進(jìn)技術(shù)使其193nm沉浸式光刻設(shè)備獲得良好的需求。Teradyne入圍前十，同時(shí)也摘得測(cè)試市場(chǎng)中的桂冠。　　總體來(lái)看，2008年全球半導(dǎo)體設(shè)備支出總額為307億美元，同比減少31.7%。從分類(lèi)市場(chǎng)來(lái)看，晶圓廠設(shè)備收入減少32.8%，后端設(shè)備減少27.2%
關(guān)鍵字： ASML 半導(dǎo)體

電子產(chǎn)品需求驟降芯片設(shè)備減產(chǎn)

　　12月22日國(guó)際報(bào)道芯片設(shè)備商叫苦，整個(gè)電子與高科技業(yè)隨之沉淪。這是非常簡(jiǎn)單的等式。電子產(chǎn)品制造商向芯片制造商購(gòu)買(mǎi)芯片，后者則向如應(yīng)用材料（Applied Materials）和ASML等設(shè)備制造商購(gòu)買(mǎi)生產(chǎn)設(shè)備。上游出問(wèn)題，下游情況自然堪慮。　　該來(lái)的終究躲不過(guò)。荷蘭芯片設(shè)備大廠ASML CFO Peter Wennink上周在美國(guó)財(cái)經(jīng)頻道CNBC表示：“電子產(chǎn)品需求驟降……迫使我們的顧客大幅減產(chǎn)。”ASML的主要顧客包括東芝、臺(tái)積電、三
關(guān)鍵字： ASML 金融危機(jī)

2008十佳晶圓設(shè)備和工藝診斷設(shè)備廠商排名(圖)

　　市場(chǎng)調(diào)研機(jī)構(gòu)VLSIResearch近日公布了2008十佳半導(dǎo)體設(shè)備廠商。今年獲得工藝診斷設(shè)備廠商、小型晶圓處理設(shè)備廠商和大型晶圓處理設(shè)備廠商各個(gè)類(lèi)別桂冠的分別是KeithleyInstruments、SENCorporation和VarianSemiconductor。　　本次調(diào)查結(jié)果是來(lái)自對(duì)芯片制造商4565次調(diào)查，受訪制造商的產(chǎn)量總和約占全球產(chǎn)量的95％。每家設(shè)備供應(yīng)商在13項(xiàng)指標(biāo)中進(jìn)行排名，包括設(shè)備性能和客服等。以下是十佳供應(yīng)商排名：　　工藝診斷設(shè)備供應(yīng)商　　在工藝診斷設(shè)備供應(yīng)商中
關(guān)鍵字：晶圓 Keithley gilentTechnologies ASML

ASML看好亞洲市場(chǎng), 搭上晶片順風(fēng)車(chē)

晶片產(chǎn)業(yè)景氣暢旺,ASML看好亞洲明年?duì)I收成長(zhǎng) 路透報(bào)道---荷蘭晶片設(shè)備制造商艾司摩爾亞太區(qū)策略行銷(xiāo)協(xié)理鄭國(guó)偉周三表示,隨著其主要半導(dǎo)體客戶搭上晶片產(chǎn)業(yè)景氣復(fù)蘇的順風(fēng)車(chē),ASML看好明年亞洲市場(chǎng)的營(yíng)收成長(zhǎng). ASML的整體營(yíng)收有60%-70%來(lái)自亞洲.全球最大的晶圓代工廠商臺(tái)積電即是ASML的主要客戶之一. 鄭國(guó)偉在臺(tái)灣半導(dǎo)體及微電子產(chǎn)業(yè)年度盛事SEMICON Taiwan場(chǎng)邊告訴路透,從一般趨勢(shì)來(lái)研判,亞洲的業(yè)務(wù)營(yíng)收將愈來(lái)愈大. 鄭國(guó)偉稱(chēng):我不認(rèn)為其他有任何地區(qū)的成長(zhǎng)動(dòng)能比亞洲更強(qiáng).但他并未
關(guān)鍵字：通訊無(wú)線網(wǎng)絡(luò) ASML 晶片通信基礎(chǔ)

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asml 文章進(jìn)入asml技術(shù)社區(qū)

臺(tái)積電取得ASML超紫外光微影設(shè)備以研發(fā)新世代工藝

半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)：全面走出陰影

光刻巨頭ASML四季度來(lái)首次盈利

ASML：客戶下單增溫　微顯影設(shè)備2010年成長(zhǎng)30%

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