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顯卡、內(nèi)存全在跌 ASML的EUV光刻機賣不動：一下少了15臺
- 全球半導(dǎo)體市場從產(chǎn)能緊張已經(jīng)轉(zhuǎn)向過剩，部分領(lǐng)域跌價跌得厲害，比如顯卡、內(nèi)存及SSD等，這一波芯片價格下滑也會影響廠商的生產(chǎn)計劃，結(jié)果就是ASML一度供不應(yīng)求的EUV光刻機賣不動了，今年出貨量減少15臺。ASML昨天發(fā)布了2022年Q2季度財報，當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元，好于市場預(yù)期的52.6億歐元，上年同期為40.20億歐元，同比增長35%。凈利潤為14.11億歐元，上年同期為10.38億歐元，同比增長36%。雖然業(yè)績大漲，但是ASML對全年的預(yù)期更加悲觀，從之前預(yù)期增長20%下調(diào)到了增長10%，其
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單價26億元 ASML下一代EUV光刻機啟動：核心部件到貨
- 荷蘭ASML公司今天發(fā)布了2022年第二季度財報，當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元，好于市場預(yù)期的52.6億歐元，上年同期為40.20億歐元，同比增長35%。毛利潤為26.65億歐元，上一季度為17.31億歐元，上年同期為20.45億歐元;毛利率為49.1%，上一季度為49.0%。凈利潤為14.11億歐元，上年同期為10.38億歐元，同比增長36%。Q2新增訂單金額為84.61億歐元，其中包括54億歐元的EUV訂單，較上一季度的新增訂單金額69.77億歐元環(huán)比增長21%。本季度中，ASML公司出貨了12臺E
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ASML發(fā)布2022年第二季度財報 | 凈銷售額54億歐元，凈利潤為14億歐元
- 阿斯麥（ASML）今日發(fā)布了2022年第二季度財報。2022年第二季度，ASML實現(xiàn)了凈銷售額54億歐元，毛利率為49.1%，凈利潤達14億歐元。今年第二季度新增訂單金額創(chuàng)歷史新高，達到85億歐元。ASML預(yù)計2022年第三季度凈銷售額約為51億~54億歐元，毛利率約為49%~50%。2022年營收預(yù)計增長約10%。2022年因快速發(fā)貨流程*產(chǎn)生的遞延到2023年的收入，預(yù)計將從約10億歐元增加到約28億歐元。(*) 快速發(fā)貨流程跳過了我們工廠內(nèi)的一些測試環(huán)節(jié)。最終測試及驗收將在客戶現(xiàn)場進行。雖然該措施導(dǎo)
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26億一臺！ASML全新光刻機準(zhǔn)備中：Intel提前鎖定 沖擊2nm工藝
- 對于芯片廠商而言，光刻機顯得至關(guān)重要，而ASML也在積極布局新的技術(shù)。據(jù)外媒報道稱，截至 2022 年第一季度，ASML已出貨136個EUV系統(tǒng)，約曝光7000萬個晶圓已曝光。按照官方的說法，新型號的EUV光刻機系統(tǒng) NXE:3600D將能達到93%的可用性，這將讓其進一步接近DUV光刻機（95%的可用性）。數(shù)據(jù)顯示，NXE:3600D系統(tǒng)每小時可生產(chǎn)160個晶圓 (wph)，速度為30mJ/cm，這比 NXE:3400C高18%。二正在開發(fā)的 NXE:3800E系統(tǒng)最初將以30mJ/cm的速度提供大過1
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臺積電、Intel、三星狂買ASML EUV光刻機
- 臺積電在北美技術(shù)論壇上公布了新的制程路線圖，定于2025年量產(chǎn)2nm工藝，其采用Nanosheet（納米片電晶體）的微觀結(jié)構(gòu)，取代FinFET。期間，臺積電甚至規(guī)劃了5種3nm制程，包括N3、N3E、N3P、N3S和N3X，要在2025年前將成熟和專業(yè)化制程的產(chǎn)能提高50%，包括興建更多的晶圓廠。顯然，作為產(chǎn)能提升以及興建晶圓廠的關(guān)鍵核心設(shè)備，EUV光刻機少不了要采購一大批。臺積電表示，計劃在2024年引入ASML的新一代EUV極紫外光刻機。此前，Intel曾說自己是第一個訂購ASML下一代EUV光刻機的
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ASML 分享 High-NA EUV 光刻機最新進展：目標(biāo) 2024-2025 年進廠
- 5 月 29 日消息，半導(dǎo)體行業(yè)花了十多年的時間來準(zhǔn)備極紫外線 (EUV) 光刻技術(shù)，而新的高數(shù)值孔徑 EUV 光刻（High-NA EUV）技術(shù)將會比這更快。目前，最先進的芯片是 4/5 納米級工藝，下半年三星和臺積電還能量產(chǎn) 3nm 技術(shù)，而對于使用 ASML EUV 光刻技術(shù)的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統(tǒng)來說，它們大都具有 0.33 NA（數(shù)值孔徑）的光學(xué)器件，可提供 13 nm 分辨率。目前來看，這種分辨率尺寸對于 7 nm / 6 nm 節(jié)點 (36 nm ~ 38 nm)
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ASML：現(xiàn)有技術(shù)能實現(xiàn)1nm工藝
- 5月17日消息，為了強調(diào)光在推進科學(xué)進步過程中的重要作用，聯(lián)合國教科文組織將每年的5月16日定為“國際光日”。5月13日，ASML在一篇公眾號文章中稱，現(xiàn)有技術(shù)能實現(xiàn)1nm工藝，摩爾定律可繼續(xù)生效十年甚至更長時間?！ SML稱，在半導(dǎo)體領(lǐng)域，摩爾定律——這一誕生于1965年的前瞻推斷，就扮演著如同光一樣的角色，指引芯片制造的每一次創(chuàng)新與突破。在過去的50多年里，摩爾定律不斷演進。摩爾關(guān)于以最小成本制造復(fù)雜芯片的最初預(yù)測，也在演進過程中被轉(zhuǎn)述成各種各樣的表述，現(xiàn)在這個定律最常被表述為半導(dǎo)體芯片可容納的
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ASML：2023年芯片產(chǎn)能將仍然供應(yīng)緊張
- 日前，ASML對目前的芯片產(chǎn)能做出了推測，目前沒有任何跡象表明相關(guān)需求放緩。根據(jù)ASML首席執(zhí)行官Peter Wennink在財報會議上的說法，目前，在各大細分市場的客戶對于先進和成熟芯片制造技術(shù)需求已經(jīng)到了一種“前所未有”的地步，且沒有任何減弱的跡象。用戶旺盛的需求導(dǎo)致Wennink不得不承認，由于產(chǎn)能限制，ASML目前做多只能滿足其深紫外光刻機需求的60%左右。Wennink表示，這意味著，直到2023年，芯片產(chǎn)能都將處在嚴(yán)重短缺的狀態(tài)，并且沒有看到任何能夠表明需求放緩的跡象。在此次電話會議上，Pet
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ASML公司開撕美國？光源技術(shù)不是根源，不交付EUV光刻機另有原因
- ASML公司雖然是荷蘭企業(yè)，但不少網(wǎng)友都把ASML公司“美”化了，這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前，中國半導(dǎo)體企業(yè)就曾向ASML公司支付了定金，采購了一臺EUV光刻機。然而，ASML公司卻遲遲沒有發(fā)貨，這也引起了網(wǎng)友的各種猜疑。眾所周知，全世界只有ASML公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機，而一部EUV光刻機上就有超過10w的精密零件，各方面的技術(shù)也是來自全世界各國的頂尖技術(shù)。所以ASML公司的光刻機一直是供不應(yīng)求。但明明已經(jīng)收了定金，10億一部的EUV光刻機，ASML公司為何有生意不做呢？大部分的
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投資5000多萬 俄羅斯計劃研發(fā)全新EUV光刻機：ASML都沒有
- 光刻機是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開發(fā)全新的EUV光刻機，使用的是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片?！ 」饪虣C的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機分辨率的主要因素就是三點，分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進工藝工藝?！ 《砹_斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金(約合51
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攻克“光源中的光源”，中國有機會
- 當(dāng)前，芯片問題廣受關(guān)注，而半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠——以極紫外（EUV）光刻機為代表的高端光刻機，則是我國集成電路（IC）產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展必須邁過的“如鐵雄關(guān)”。如何在短期內(nèi)加快自主生產(chǎn)高端光刻機的步伐，打破國外的技術(shù)封鎖和市場壟斷？筆者認為，應(yīng)找準(zhǔn)關(guān)鍵技術(shù)，攻克核心設(shè)備，躋身上游產(chǎn)業(yè)。認清光刻關(guān)鍵技術(shù)對于光刻機，憑什么美國可以左右荷蘭阿斯麥公司（ASML）EUV光刻機的出海國家？ASML又為什么“愿意”聽從美國的“擺布”？一方面，美國在ASML早期研發(fā)階段給予大力扶持，幫助其獲取最新的研究成果；作為繼續(xù)扶持
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總投資155億 國產(chǎn)CMOS傳感器工廠又迎來一臺ASML先進光刻機搬入
- 日前國產(chǎn)芯片廠商格科微宣布成功實現(xiàn)整套ASML光刻機中的關(guān)鍵設(shè)備——先進ArF光刻機的搬入。據(jù)格科微表示，目前，格科微潔凈室已按計劃分階段順利驗收，相關(guān)廠務(wù)系統(tǒng)配備進展順利，共有六十一臺設(shè)備已經(jīng)搬入。未來，外延、蝕刻、薄膜、清洗等相關(guān)設(shè)備仍會陸續(xù)搬入。格科微表示，ArF光刻機的成功引入，是格科微“12英寸CIS集成電路特色工藝研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”建設(shè)的關(guān)鍵節(jié)點。依托自有工廠即格科半導(dǎo)體的先進制程，格科微將進一步加快先進CIS工藝和高階專利像素的研發(fā)速度，并在自有工廠實現(xiàn)批量生產(chǎn)驗證，從而極大縮短高端產(chǎn)品從研
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光刻機巨頭阿斯麥 ASML 將于新加坡擴建新產(chǎn)線
- 3 月 29 日消息，光刻機巨頭阿斯麥 ASML 在新加坡一間工廠的開幕式上宣布，將在該工廠興建第二座制造車間，預(yù)計將于 2023 年初投產(chǎn)。擴建后的工廠將讓該公司在新加坡的產(chǎn)能增加 3 倍，全球產(chǎn)能倍增。ASML 是世界領(lǐng)先的科技公司之一，全球半導(dǎo)體價值鏈的主要參與者。這里設(shè)計的技術(shù)和機器有助于在新加坡、韓國或美國生產(chǎn)芯片。世界上最大的芯片制造商們都需要這種設(shè)備。在生產(chǎn)處理器芯片的過程中，EUV 光刻機最昂貴。目前全世界只有阿斯麥（ASML）能制造出 EUV 光刻機。在過去的十年時間里，阿斯麥總共售出大
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ASML發(fā)出產(chǎn)能預(yù)警 芯片制造商面臨先進光刻機供應(yīng)短缺的瓶頸
- 受近年芯片供應(yīng)持續(xù)短缺的影響，我們已經(jīng)看到了位于世界各地的多個晶圓廠的建設(shè)公告。但是在投入實際生產(chǎn)之前，這一切都受到荷蘭阿斯麥（ASML）的光刻機供應(yīng)的限制。ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 剛剛發(fā)出警告，稱該公司難以滿足客戶的產(chǎn)品需求。據(jù)悉，ASML 專注于生產(chǎn)適用于半導(dǎo)體行業(yè)的各種類型的光刻機，且在該領(lǐng)域處于世界領(lǐng)先地位，客戶中包括了英特爾、臺積電、三星等芯片巨頭。然而最新消息是，至少在未來幾年內(nèi)，ASML 都無法順利交付所有訂單。即使今年預(yù)期的光刻機出貨量高于去年，但明年的增勢并未放
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