華為日前公布了一項(xiàng)新專利，展示了一種《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》， 專利申請(qǐng)?zhí)枮镃N202110524685.X，據(jù)介紹，這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，在極紫外光的光刻裝置基礎(chǔ)上進(jìn)行了優(yōu)化，進(jìn)而達(dá)到勻光的目的。
該專利提供一種光刻裝置，該光刻裝置通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場在曝光時(shí)間內(nèi)的累積光強(qiáng)均勻化，從而達(dá)到勻光的目的，進(jìn)而也就解決了相關(guān)技術(shù)中因相干光形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題。
該光刻裝置包括相干光源 1、反射鏡 2 ( 也可以稱為去相干鏡 ) 、照明系統(tǒng) 3。其中，反射鏡 2 可以進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；例如，可以在光刻裝置中設(shè)置旋轉(zhuǎn)裝置，反射鏡 2 能夠在旋轉(zhuǎn)裝置的帶動(dòng)下發(fā)生旋轉(zhuǎn)。在該光刻裝置中，相干光源 1 發(fā)出的光線經(jīng)旋轉(zhuǎn)的反射鏡 2 的反射后，通過照明系統(tǒng) 3 分割為多個(gè)子光束并投射至掩膜版 4 上，以進(jìn)行光刻。在光刻裝置中，上述照明系統(tǒng) 3 作為重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明 ( 勻光 ) 、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明等，以提高光刻分辨率和增大焦深。照明系統(tǒng) 3 的勻光功能可以是通過科勒照明結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)的。
該照明系統(tǒng) 3 包括視場復(fù)眼鏡 31 ( field flyeye mirror，F(xiàn)FM ) 、光闌復(fù)眼鏡 32 ( diaphragm flyeye mirror，PFM ) 、中繼鏡組 33；其中，中繼鏡組 33 通?？梢园▋蓚€(gè)或者兩個(gè)以上的中繼鏡。照明系統(tǒng) 3 通過視場復(fù)眼鏡 31 將來自相干光源 1 的光束分割成多個(gè)子光束，每個(gè)子光束再經(jīng)光闌復(fù)眼鏡 32 進(jìn)行照射方向和視場形狀的調(diào)整，并通過中繼鏡組 33 進(jìn)行視場大小和 / 或形狀調(diào)整后，投射到掩膜版 4 的照明區(qū)域。通過在相干光源 1 與照明系統(tǒng) 3 之間的光路上設(shè)置反射鏡 2，在此情況下，相干光源 1 發(fā)出的光線經(jīng)旋轉(zhuǎn)的反射鏡 2 反射后相位不斷發(fā)生變化，這樣一來，在經(jīng)反射鏡 2 反射后的光線通過照明系統(tǒng) 3 分割為多個(gè)子光束并投射至掩膜版 4 上時(shí)，形成在掩膜版 4 的照明區(qū)域的干涉圖樣不斷變化，從而使得照明視場在曝光時(shí)間內(nèi)的累積光強(qiáng)均勻化，從而達(dá)到勻光的目的，進(jìn)而也就解決了相關(guān)技術(shù)中因相干光形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題。值得注意的是，光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中最核心的設(shè)備，同時(shí)也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。就目前光刻機(jī)市場來看，高端的EUV光刻機(jī)設(shè)備也只有荷蘭ASML能生產(chǎn)，這個(gè)重達(dá)數(shù)噸的設(shè)備中涉及了超過10萬零部件，需要的工種繁多，毫不客氣地說，ASML所生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)是集結(jié)了全球先進(jìn)的產(chǎn)業(yè)鏈，將諸多零部件進(jìn)行整合，最終集成一臺(tái)EUV光刻機(jī)設(shè)備。因此大可不必鼓吹“華為申請(qǐng)了光刻機(jī)裝置專利，意味著攻克了EUV光刻機(jī)技術(shù)”。來源：EDN 電子技術(shù)設(shè)計(jì)
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