臺積電前副總裁林本堅:美國徒勞,難阻中國芯片發(fā)展
臺積電前副總裁林本堅表示,美國不可能完全阻止中國改進(jìn)芯片技術(shù),試圖限制中國的進(jìn)步,這是徒勞的。
林本堅本周接受采訪時表示,美國應(yīng)該專注于保持其芯片設(shè)計領(lǐng)先地位,而不是對抗中國的整體國家戰(zhàn)略。
林本堅在業(yè)界備受推崇,因為他是第一個提出浸沒式微影曝光技術(shù)的人,這是ASML核心產(chǎn)品所依賴的技術(shù)。林本堅說,除了努力達(dá)到5nm里程碑之外,中國可能還會嘗試新材料或先進(jìn)芯片封裝,以制造更強(qiáng)大的半導(dǎo)體。
林本堅表示,中國可以使用現(xiàn)有的舊機(jī)器制造更復(fù)雜的芯片。中芯應(yīng)該能夠利用已經(jīng)營運(yùn)的ASML曝光機(jī)推進(jìn)到下一代5nm制程。
林本堅補(bǔ)充說:「美國真正應(yīng)該做的是專注于保持其芯片設(shè)計領(lǐng)先地位,而不是試圖限制中國的進(jìn)步,這是徒勞的,因為中國正在采取舉國戰(zhàn)略來發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)」。
來源:芯榜
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