ASML：中國已有近1400臺(tái)ASML光刻機(jī)

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2022年全球光刻機(jī)市場，其中ASML占據(jù)82%的市場份額，佳能和尼康分別以10%和8%的市場份額穩(wěn)居第二和第三位。

作為頂級廠商，ASML是目前世界上唯一使用極紫外光（EUV）的光刻機(jī)制造商，其90%的零部件都來自于外購。

ASML部分供應(yīng)商名單如下：

據(jù)外媒報(bào)道，2023年第一季度，ASML向中國大陸出貨23臺(tái)光刻機(jī)。其中，主要型號包括ArF、KrF等中低端光刻機(jī)。

第三季度，ASML共出售了105臺(tái)全新光刻機(jī)以及7臺(tái)二手光刻機(jī)，全新光刻機(jī)包括11臺(tái)EUV、32臺(tái)ArFi（浸潤式DUV光刻機(jī)）、9臺(tái)ArF dry（干式DUV光刻機(jī)）、44臺(tái)KrF以及16臺(tái)I-Line。

目前，中國大陸已經(jīng)成為ASML最重要的市場之一。據(jù)2023年第三季度財(cái)報(bào)顯示，當(dāng)季中國大陸的銷售額占ASML整體銷售額的比重升至46%。累積前三個(gè)季度，ASML共計(jì)向中國大陸市場銷售了約53億歐元的光刻機(jī)，折算人民幣為400多億元。

按照終端應(yīng)用方面劃分，以銷售額計(jì)算，用于制造邏輯芯片的光刻機(jī)出貨占比76%，用于制造存儲(chǔ)芯片的占比24%。以銷售額計(jì)算，ArFi浸潤式光刻機(jī)占比高達(dá)48%，EUV光刻機(jī)占比35%。

現(xiàn)如今，ASML在中國設(shè)有16個(gè)辦事處、12個(gè)倉儲(chǔ)物流中心、3個(gè)開發(fā)中心、1個(gè)培訓(xùn)中心以及1個(gè)維修中心，ASML在中國大陸的員工總?cè)藬?shù)已經(jīng)超過1600人。

ASML助力晶圓廠

美國新規(guī)對ASML業(yè)務(wù)有何影響？

10月17日，美國政府頒布了最新的出口管制規(guī)則。ASML表示，正在深入評估潛在的影響。不過ASML認(rèn)為，受到新規(guī)影響的中國晶圓廠數(shù)量有限。

對此消息，ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示：目前我們還在對新出口管制政策進(jìn)行研究。如果以今年我們在中國的業(yè)務(wù)為基礎(chǔ)，明年的業(yè)務(wù)大概會(huì)受到10%-15%的影響。

從公司角度來看，到2030年行業(yè)整體趨勢呈現(xiàn)起伏性增長，因此新出口管制政策對公司的銷售總體趨勢影響并不大。同時(shí)他補(bǔ)充道：“只有我們部分浸潤式產(chǎn)品明年會(huì)被納入出口管制的范圍，并非所有產(chǎn)品。即使有了新的出口管制，我們還有非常大的一塊浸潤式的業(yè)務(wù)在中國?！?/strong>

對于中國而言，將成熟制程芯片做到具有競爭力的水平，是提高投入產(chǎn)出比的最有效途徑。中國市場就像一個(gè)縮小的全球市場，擁有各種客戶和產(chǎn)品。ASML的服務(wù)不僅限于機(jī)器的維修和維護(hù)，更在于幫助客戶充分利用設(shè)備并優(yōu)化工藝流程。

過去幾年，ASML每年DUV設(shè)備的供應(yīng)能力約為200臺(tái)左右。預(yù)計(jì)到2023年，DUV設(shè)備制造產(chǎn)能將達(dá)到300多臺(tái)，但供應(yīng)缺口仍然很大。近年來，公司不斷與供應(yīng)商溝通，以確保順利實(shí)現(xiàn)2025年底600臺(tái)設(shè)備的目標(biāo)產(chǎn)能。

但需要注意的是，盡管ASML宣布將繼續(xù)對我國市場出貨，并表示在三、四季度將有27臺(tái)光刻機(jī)運(yùn)往中國，但此外還有600億尚未交付的生產(chǎn)訂單，看似是在向我們示好，實(shí)則另有目的。

面對ASML的主動(dòng)示好，我們不能掉以輕心，要堅(jiān)定不移的走科技自主化研發(fā)，只有掌握足夠的核心技術(shù)，才能在接下來的競爭中，始終立于不敗之地！

兩年時(shí)間

中國半導(dǎo)體裝備進(jìn)步如何 

回顧一下，兩年前中國半導(dǎo)體裝備行業(yè)的一個(gè)概況，包括光刻機(jī)在內(nèi)，幾種主流半導(dǎo)體裝備的指標(biāo)滿足情況大致如下：

 

兩年時(shí)間過去后，國內(nèi)廠商的追趕情況大致如下：

  

在2000年左右，我國才開始大規(guī)模投入光刻機(jī)的研發(fā)，并建立了多個(gè)光刻機(jī)研發(fā)和生產(chǎn)基地。通過與國際知名企業(yè)合作、引進(jìn)先進(jìn)技術(shù)和培育本土企業(yè)，華大、北方華創(chuàng)、中微半導(dǎo)體等逐漸開始嶄露頭角。

目前EUV長期被限，2024年高端浸沒式也將斷供。我國光刻機(jī)仍是卡脖子最關(guān)鍵環(huán)節(jié)，實(shí)現(xiàn)高端光刻機(jī)的國產(chǎn)替代至關(guān)重要。

如今，我國光刻機(jī)攻尖采取類ASML的模式，細(xì)分各科研院所、高校做分系統(tǒng)，再由SMEE進(jìn)行整機(jī)組裝。中科院微電子所、長光所、上光所，清華大學(xué)、浙江大學(xué)、哈工大等均參與光刻機(jī)的研發(fā)。

上海微電子，已成功研制出了DUV（深紫外）光刻機(jī)。可用于量產(chǎn)28納米中低端芯片，標(biāo)志著中國在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域取得了一項(xiàng)重要的突破。

 

來源于：官網(wǎng)

中芯國際，已能夠利用其現(xiàn)有的ASML浸沒式光刻機(jī)生產(chǎn)出7納米的芯片，并且為華為提供了手機(jī)芯片。

雖然當(dāng)前國內(nèi)與國外頂尖光刻機(jī)制程仍存在較大差距，但人才是決定技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵，強(qiáng)如臺(tái)積電、三星、蘋果、華為，都是靠著到處挖技術(shù)人員，站上了行業(yè)前列的位置。

臺(tái)積電內(nèi)部絕大多數(shù)都是德州儀器出來的人；三星靠著3倍薪資的待遇，挖走了許多同行的技術(shù)人員，打敗了當(dāng)年的閃存老大東芝；而華為專挖有能力創(chuàng)造技術(shù)專利的人，比如加大拿北電網(wǎng)絡(luò)的主管童文等。

國產(chǎn)光刻機(jī)供應(yīng)商如下：

光刻機(jī)國產(chǎn)化是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要方向之一。通過加大研發(fā)力度、人才培養(yǎng)和引進(jìn)、合作與交流、產(chǎn)業(yè)協(xié)同和政策支持等方面的努力，加速中國光刻機(jī)技術(shù)的發(fā)展，提高自主創(chuàng)新能力和國際競爭力。

來源：EDA365電子論壇