ASML近日宣布已向另一家客戶交付其第二套高NA EUV光刻系統(tǒng)，彰顯了領先芯片制造商對下一代極紫外（EUV）光刻技術的濃厚興趣。然而，目前尚不清楚ASML的客戶是誰，即將獲得這款配備0.55數(shù)值孔徑的投影光學器件的EUV工具。

ASML首席商務官Christophe Fouquet在與分析師和投資者的電話會議上表示：“關于高NA（0.55 NA EUV），我們已經(jīng)向客戶交付了我們的首個系統(tǒng)，目前正在進行安裝?！薄氨驹挛覀冮_始交付第二套系統(tǒng)，安裝工作也即將啟動?！?/span>

回顧2023年底，ASML首次向英特爾交付了其首款高NA EUV光刻工具Twinscan EXE:5000。英特爾計劃利用該系統(tǒng)學習其操作，并將其與英特爾14A制造工藝相結合，投入大規(guī)模生產(chǎn)，這需要數(shù)年的時間。通過早期探索基于高NA EUV的工藝技術，英特爾將為下一代光刻技術的發(fā)展奠定行業(yè)標準，從而在未來幾年獲得競爭優(yōu)勢。

ASML首席執(zhí)行官Christophe Fouquet還提到：“在2月份的SPIE工業(yè)會議上，我們宣布了位于Veldhoven的ASML-Imec高NA聯(lián)合實驗室的高NA系統(tǒng)的首次亮相。”“我們已經(jīng)獲得了第一張圖像，其分辨率低于10納米，并有望在未來幾周內開始曝光晶圓。所有High-NA客戶都將使用該系統(tǒng)進行早期工藝開發(fā)?！?/span>

盡管臺積電和Rapidus似乎不急于采用高NA EUV光刻系統(tǒng)進行大規(guī)模生產(chǎn)，但他們仍將在未來某個時候采用這項技術，這也是ASML對未來充滿信心的原因。據(jù)悉，全球最大的晶圓廠工具制造商正在研發(fā)具有投影光學的Hyper-NA EUV光刻工具，其數(shù)值孔徑高達0.7以上。

Fouquet指出：“客戶對我們的[高NA]系統(tǒng)實驗室表現(xiàn)出了極大的興趣，因為該系統(tǒng)將幫助我們的邏輯和存儲器客戶準備將高NA技術應用于他們的技術路線圖?！薄跋噍^于0.33 NA系統(tǒng)，0.55 NA系統(tǒng)提供了更精細的分辨率，使得晶體管密度增加了近3倍，而生產(chǎn)率保持相似，支持sub-2nm邏輯和sub-10nm DRAM節(jié)點?！?/span>