KLA-TENCOR推出面向光刻設(shè)計(jì)檢測(cè)方案
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DesignScan 可對(duì) post-RET 掩膜版設(shè)計(jì)進(jìn)行在線檢測(cè),以發(fā)現(xiàn)光刻制程工藝窗口中的錯(cuò)誤。通過與 LithoView 配合使用,具有的新功能可加強(qiáng)代工廠和無工廠芯片生產(chǎn)商之間的協(xié)作,DesignScan 能識(shí)別影響性能和成品率的圖形,并將這些信息向上反饋到無工廠的設(shè)計(jì)機(jī)構(gòu)。LithoView 允許無工廠設(shè)計(jì)機(jī)構(gòu)能查看由 DesignScan 檢測(cè)到的結(jié)果。DesignScan 可為晶片光刻制程工藝優(yōu)化設(shè)計(jì),為光刻制程工藝優(yōu)化 post-RET 掩膜版版面,以及為設(shè)計(jì)優(yōu)化光刻制程工藝,進(jìn)而提高光刻制程工藝窗口的設(shè)計(jì)性能。
“由于掩膜版版面總是不斷偏離設(shè)計(jì)目標(biāo),因此為生產(chǎn)而設(shè)計(jì) (DFM) 顯得非常重要,”KLA-Tencor 掩膜版和光掩膜檢測(cè)事業(yè)部 (RAPID) 總經(jīng)理 Harold Lehon 指出?!白鳛橐患抑铝τ诔善仿使芾淼墓荆琄LA-Tencor 始終專注于使半導(dǎo)體生產(chǎn)公司能更好地進(jìn)行決策,并在半導(dǎo)體價(jià)值鏈的所有層次上提高成品率。通過 DesignScan 等方案,我們可以將我們的成品率知識(shí)和專業(yè)技術(shù)向上延伸到 post-RET 設(shè)計(jì)階段?!?nbsp;
今天的光刻工藝要求對(duì)掩膜版版面采用極其復(fù)雜的 RET,例如 OPC 功能,以便獲得成功的圖形。在設(shè)計(jì)中加入 OPC 之后,必須通過檢測(cè)以確保沒有任何可能導(dǎo)致圖形缺陷的設(shè)計(jì)錯(cuò)誤,并確保能在掩膜版生產(chǎn)之前為給定工藝設(shè)計(jì)提供合理的光刻制程工藝窗口。盡早地檢測(cè)到這些錯(cuò)誤是非常關(guān)鍵的,因?yàn)樵谘谀ぐ嫔a(chǎn)之前發(fā)現(xiàn)的設(shè)計(jì)錯(cuò)誤可能只需幾天或一周就能加以糾正,但是如果等到在代工廠才檢測(cè)到錯(cuò)誤,則會(huì)導(dǎo)致數(shù)個(gè)月的時(shí)間延誤。DesignScan 為檢測(cè)和優(yōu)化工藝窗口提供了最快的周轉(zhuǎn)時(shí)間。
“由于新一代芯片的設(shè)計(jì)復(fù)雜性不斷增加,系統(tǒng)性的成品率損失正在逐漸升高,”KLA-Tencor 負(fù)責(zé)光刻的副總裁 Chris Mack 認(rèn)為,他也是 DesignScan 計(jì)劃的最初負(fù)責(zé)經(jīng)理?!俺善仿侍岣叩淖畲罂赡艽嬖谟诠饪滩糠郑@是因?yàn)橛捎诰劢购推毓馄?,設(shè)計(jì)版面和 RET/OPC 已經(jīng)無法繼續(xù)優(yōu)化。對(duì)芯片生產(chǎn)商而言,僅僅弄清最佳聚焦和曝光情況下的設(shè)計(jì)成品率是不夠的。要獲得最嚴(yán)格的參數(shù)化成品率分布,需要在整個(gè)光刻工藝窗口中進(jìn)行設(shè)計(jì)檢測(cè)?!?nbsp;
KLA-Tencor 現(xiàn)已開始接受 DesignScan 的訂單。
評(píng)論