海力士半導體工廠蒸鍍設備氣體外泄
據(jù)韓國電子新聞報導,韓國半導體大廠海力士(Hynix)位于京畿道利川的工廠發(fā)生氣體外泄事故。19日晚間約10點50分,在維修DRAM半導體產線蒸鍍設備過程中,海力士合作廠2位員工因操作不當,使設備內殘留的液化氣體外泄。
本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/119787.htm外泄的液化氣體含有阿摩尼亞成分,廠內產生惡臭,正在進行作業(yè)中的海力士員工及合作廠員工約120多人緊急送往鄰近醫(yī)院,接受治療后已平安返家,未傳出人員傷亡。本次事故對工廠生產未造成影響。
韓國媒體23日晚間訪問海力士社長權五鉉,他表示氣體外泄雖造成工廠生產暫停等情況,但內部已馬上應變處理,目前沒有任何影響,工廠仍正常生產中。此外,他也表示,外泄的氣體雖含有阿摩尼亞成分,但對人體沒有太大傷害。發(fā)生事件當時,距離事故現(xiàn)場最近的兩位員工接受醫(yī)院檢查后也已無事返家,沒有人員傷亡。
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