鋰離子電池管理芯片的研究及其低功耗設計 — 數(shù)?;旌想娐返牡凸脑O計方法(二)
2.2模擬電路的低功耗設計
2.2.1模擬電路低功耗的限制條件
如前所述,在數(shù)字電路低功耗設計中,降低電源電壓是等比例降低工藝中最常采用也是最有效的辦法。但由于實際系統(tǒng)通常采用通用的數(shù)字電路工藝,而數(shù)字電路優(yōu)化功耗的方案并沒有考慮到對模擬電路功能的影響。對模擬電路而言,電源電壓的降低對動態(tài)范圍(Dynamic Range,DR)和功耗反而不利。
1基本限制條件
模擬信號電路所消耗的功率是為了維持信號能量超過基本的熱噪聲,達到給定的信噪比(Signal-to-Noise Ratio,SNR)。圖2.2.1給出了一個典型的模擬信號處理電路示意圖,它可以是一個放大器、濾波器、振蕩器等。電路總的功率為
式中,IDD為流過電源電壓V DD的電流,VPP是VDD在電容C端產(chǎn)生的輸出電壓峰-峰值,ƒ為頻率。
式(2.2.1)可知,當VPP接近VDD時,功率將有一個最小值。考慮到信噪比表達式
式中,k為玻爾茲曼常數(shù)(1.38×10-23J/K),T為絕對溫度。由式(2.2.1)和(2.2.2),可以得到
由式(2.2.3)可以看出,在給定的溫度下,模擬電路所消耗的功率由電路工作頻率(或給定的帶寬)、信噪比、電源電壓與信號峰-峰值之比所決定。顯然,rail-to-rail(即V PP =V DD)電路的功耗最低,為
式(2.2.4)可以看出,在模擬電路中,在信噪比每增加10dB,最小功率的絕對值要增大十倍,而在數(shù)字電路中,要實現(xiàn)高信噪比,所犧牲的功耗遠遠低于模擬電路。還可以看出,式(2.2.4)表示的模擬電路低功耗基本限制條件是一個通用方程,它僅僅給出了功耗與信噪比、速度的關系,而對電壓擺幅、電路結構、有源電路產(chǎn)生的噪聲沒有任何限制條件。對于給定的精度、增益和線性度,設計者總是希望得到一定的動態(tài)范圍和速度,顯然,僅僅用式(2.2.4)無法對不同的方案得出有用的比較結果。因此,設計面向應用的低壓低功耗模擬電路之前,必須對實際局限性有較深入的認識,比如噪聲和精度。
2實際限制條件
1)與噪聲相關的功耗
基于噪聲對模擬系統(tǒng)的性能有極大的影響,功耗優(yōu)化必須考慮到電路中器件的噪聲。如圖2.2.2所示,在低頻下,MOS管的噪聲模型可分成兩個相互獨立的隨機噪聲:一個是熱噪聲,可用漏源間的電流源表征,另一個是閃爍(或稱1/ƒ)噪聲,可用與柵極串聯(lián)的電壓源表示。
定義熱噪聲的噪聲功率譜密度(Power Spectral Density,PSD)為SI,有
式中,GTH表征晶體管熱噪聲電導,其大小與MOS管的工作區(qū)域有關。通常,可將熱噪聲電導變換為一個柵極熱噪聲電阻,即有
式中,gm為器件跨導。
而閃爍噪聲的噪聲功率譜密度SV,1/ƒ為
式中,ρ在給定的溫度下是與工藝相關的常數(shù)。
在飽和區(qū),通??蓪嵩肼暫烷W爍噪聲統(tǒng)一為柵極的總噪聲,此時可用一個與頻率有關的噪聲電阻定義:
結合式(2.2.6)和(2.2.8)可見,在給定的頻率下,當跨導增加時,總輸入噪聲將下降,此時總噪聲主要由1/ƒ噪聲決定;而增大柵極面積時,總輸入相關噪聲將主要由熱噪聲組成。
電壓信號處理電路中,可以用較常見的運算放大器(OperationalAmplifier,OPA)為例,來討論噪聲對電路功耗的影響。圖2.2.3給出了具有有源負載的OPA結構,其中,CL為輸出端負載電容。
OPA的增益帶寬(Gain Bandwidth,GBW)為
輸入電壓的噪聲功率譜密度為
式中,NEF代表過剩噪聲因子(Noise Excess Factor, NEF),為了降低噪聲,輸入對的跨導必須遠大于有源負載的跨導,此時NEF接近1.利用噪聲帶寬的方法可以求得輸出噪聲功率,在跟隨器結構中,增益G=1,則輸出端的動態(tài)范圍DR可以表示為
式中,分別為PMOS和NMOS的飽和電壓。將式(2.2.9)和(2.2.10)代入,則有
由式(2.2.12)可見,降低電源電壓將使輸出端的DR急劇下降。當gm =2I/(VGS -VTH)時,由式(2.2.9)和(2.2.12),得
在飽和區(qū),最小的VGS -VTH值為2nUT(其中U T =kT/q為熱電壓,室溫下為26mV,n為亞閾值因子),而且在時,則由式(2.2.13)可得
式(2.2.14)給出了在給定的動態(tài)范圍、增益和增益帶寬條件下,OPA電路所需要的最小的功耗。它給出了所有重要的設計參數(shù)間的約束關系,對電路設計有著重要的指導意義。
2)與精度相關的功耗
模擬電路低功耗設計中,尤其是高速應用場合,必須要考慮精度。而在速度-功耗-精度的約束條件中,最重要的是器件參數(shù)的失配。解決失配的方法有失調補償或是自調零(Auto-zero)技術。但這些補償技術需要校準過程,在校準期間要中斷系統(tǒng)的正常工作,將電路模塊的失調電壓取樣后動態(tài)地放在存儲器中。這將降低電路工作速度、增加額外的芯片面積以提供校準(Calibration)和復制(replica)電路。在許多高速低功耗電路中,系統(tǒng)通常不允許被中斷,或者所需的連續(xù)工作時間太長,不能保證失調能及時被糾正。因此,通常認為精度完全是由工藝的匹配性能所決定,典型地,如在高速AD或在DA轉換器中,位的精度和晶體管的匹配成正比。
通常,兩個理想晶體管間的失配用兩個參數(shù)來表征,一個是閾值電壓失配V T0≡VT01 -VT02,用標準偏差σVT來表示;另一個是電流增益系數(shù)β失配△β/β=(β1 -β2)/β,用標準偏差σβ來表示。它們普遍滿足下式:
式中,AVT0、Aβ是與工藝相關的常數(shù)。
當晶體管為電壓偏置時,器件的柵壓相同而電流是變量;對于具有相同電流偏置的兩個器件(如差分對),電壓將相關變化。根據(jù)獨立的失調分布,可以推出這種相關變化的分布:
MOS管工作在強反型時,式(2.2.16)變?yōu)?br />
由式(2.2.17)可以看出,當變量為電流時,增加柵驅動電壓可以提高精度。
這也證明了在電流模式電路中,為了達到最佳精度,必須將器件偏置在深飽和區(qū)。
與之相反的是,在電壓模式電路中,為減小失調電壓,必須盡可能地降低Vov的值(令Vov =VGS-VTH),通??蓪⒋酥翟O置在強反型邊緣。
式(2.2.17)還可以看出,要提高電路精度,就需要大尺寸的器件,但與此同時,電路節(jié)點的負載電容也增加,為維持給定的速度,就需要更大的功耗。對于單端輸入,工作在強反型飽和區(qū)的器件,增益帶寬由下式?jīng)Q定
對于給定的V ov,定義式(2.2.17)中的電流精度為1/Acurracy2=[σ(△ID)/ID]2,電路所消耗的功率為P=IVDD,則結合式(2.2.18),得到
式(2.2.20)給出的功耗-速度-精度的關系式,它表明在給定的電源電壓下,功耗與電路精度的平方成正比,即意味著提高精度和提高速度相比,要付出更大的功耗代價。對于許多更加復雜的電路,如電流信號處理電路、差分對和運放等電壓信號處理電路,甚至是多級電路中,式(2.2.20)仍然適用。
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